[发明专利]造影剂

权利要求书

1. 一种下式(I)化合物及其盐或旋光异构体：

R─N(CHO)─X─N(R³)─R　　　(I)

　　　　式(I)

其中

X表示C₃-C₈直链或支链亚烷基部分，任选其1-2个CH₂部分被氧原子、硫原子或NR¹基团置换，并且亚烷基部分任选被至多6个-OR¹基团取代；

R¹表示氢或者C₁-C₄直链或支链烷基；

R³表示氢原子或酰基官能团；和

R各自独立地相同或不同，且表示被2个R²基团进一步取代的三碘化苯基，其中每个R²相同或不同，且表示氢原子或非离子亲水部分，前提条件是式(I)化合物中至少1个R²基团为亲水部分。

2. 权利要求1要求保护的化合物，其中X表示直链C₃-C₈亚烷基链。

3. 权利要求1和2要求保护的化合物，其中X表示被1-6个-OR¹基团取代的直链C₃-C₈亚烷基链。

4. 前述权利要求中任一项要求保护的化合物，其中R¹表示氢原子或甲基。

5. 权利要求4要求保护的化合物，其中R¹表示氢原子。

6. 前述权利要求任一项要求保护的化合物，其中X表示直链C₃-C₅亚烷基链，所述亚烷基链在不邻接桥氮原子的位置上具有至少一个取代羟基。

7. 权利要求6要求保护的化合物，其中C₃-C₅亚烷基链是被1、2或3个羟基取代的直链亚丙基、亚丁基或亚戊基链。

8. 权利要求7要求保护的化合物，其中X包括2-羟基亚丙基、2,3-二羟基亚丁基、2,4-二羟基亚戊基和2,3,4-三羟基亚戊基连接基。

9. 前述权利要求任一项要求保护的化合物，其中R³表示氢原子或脂族有机酸残基。

10. 权利要求9中要求保护的化合物，其中R³表示C₁-C₅有机酸部分，其选自甲酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基和戊酰基部分。

11. 权利要求10要求保护的化合物，其中R³表示甲酰基部分或乙酰基部分。

12. 权利要求11要求保护的化合物，其中R³表示甲酰基部分。

13. 权利要求9要求保护的化合物，其中R³表示氢原子。

14. 前述权利要求任一项要求保护的化合物，其中每个三碘化苯基R表示在苯基部分的3位和5位上被2个R²进一步取代的2,4,6-三碘化苯基。

15. 前述权利要求任一项要求保护的化合物，其中每个R²相同或不同，且表示包括酯、酰胺和胺部分的非离子亲水部分，其任选被直链或支链C_1-10烷基进一步取代，任选其一个或多个CH₂或CH部分被氧原子或氮原子置换以及任选被一个或多个选自以下的基团取代：氧代、羟基、氨基或羧基衍生物、以及氧代取代的硫原子和磷原子。

16. 权利要求16要求保护的化合物，其中每个R²相同或不同，且表示包括酯、酰胺和胺部分的非离子亲水部分，其任选被直链或支链C_1-5烷基进一步取代，任选其一个或多个CH₂或CH部分被氧原子或氮原子置换以及任选被一个或多个选自以下的基团取代：氧代、羟基、氨基或羧基衍生物、以及氧代取代的硫原子和磷原子。