[发明专利]替莫西林钠的制备方法有效
申请号: | 201410170590.2 | 申请日: | 2014-04-26 |
公开(公告)号: | CN103910748A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 张颖;刘鹏;高国锐;王学斌;马元新;孙晓彬 | 申请(专利权)人: | 济南康和医药科技有限公司 |
主分类号: | C07D499/72 | 分类号: | C07D499/72;C07D499/04 |
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地址: | 250101 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 西林 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于化合物制备领域,具体涉及一种替莫西林钠的制备方法。
技术背景
替莫西林钠(Temocillin Sodium,商品名为Temopen,CAS登记号61545-06-0)化学名称:(2S, 5R, 6S)-6-[(羧基-3-噻吩乙酰基)氨基]-6-甲氧基-3,3-二甲基-7-氧代-4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷-2-羧酸二钠盐,其化学结构式如下:
替莫西林钠是Beecham制药公司(现合并为SmithKline Beecham制药公司)研发的一种新型长效耐β-内酰胺酶的青霉素类抗生素,1984年最早在德国上市。替莫西林钠作为半合成广谱抗生素,口服不吸收;对β-内酰胺酶稳定,对革兰氏阴性菌敏感,对肠球菌、溶血性链球菌等活性较高、但对铜绿假单胞菌活性差,用于治疗敏感菌所致尿路、皮肤和软组织感染等。
替莫西林钠作为一种β-内酰胺类抗生素,是第一种6位甲氧基青霉素,现有制备路线都是围绕着其6位甲氧基的构架为中心展开,现有技术条件下的制备方法分为以下几个方法。
专利GB1538052公开的制备路线,以6-氨基青霉素烷酸苄酯为原料,通过将 6-β位氨基转化为异氰基后,在 6-α位引入甲硫基,然后在 HgCl2 的作用下,6-α位由甲氧基取代,再通过与侧链苄基保护的3-噻吩丙二酸单酰氯酰化和氢化脱苄基制得替莫西林钠。这条工艺路线长,收率低,用到五氯化磷、光气、氯化汞等有毒试剂,最后一步采用钯碳氢化还原脱除保护基,不利于工业化放大生产。
专利GB 1578748公开的制备替莫西林钠的路线,以对甲基苄基或对硝基苄基保护替卡西林为原料,用五氯化磷处理后,侧链转化为稳定的乙烯酮亚胺结构,然后经氯气加成和甲醇锂处理,在 6-α位引入甲氧基,再经氢化还原制得替莫西林钠。同第一条路线一样。步骤较长,所用原料替卡西林二苄酯不是常见的市售品。
中国药科大学李淼、周湘等(青霉素类抗生素替莫西林二钠的合成,中国新药杂志2010年第19卷第22期)提出了一条制备替莫西林钠的路线,以替卡西林钠为原料,经酯化保护后,低温下与次氯酸叔丁酯和强碱反应,在6位成功引入甲氧基,再氢化脱去苄基保护,得到替莫西林钠。所述路线较长,其中保护与脱保护增加了生产难度、减少了收率。
替莫西林钠作为一种长效青霉素类抗生素,其使用量比较大,原材料的价格与路线都关系着替莫西林钠的生产成本的控制,因此,有必要选择一种简便制备方法,缩短工艺路线,来降低产品的成本,提高经济效益。
发明内容
本发明的目是针对现有技术的不足,提供一种安全的,低成本的,适合工业化生产的替莫西林钠的制备方法。
本发明的目的可以通过以下的技术方案来实现:
一种替莫西林钠的制备方法,其特征在于:用替卡西林钠为起始原料与卤代试剂在甲氧基碱条件下反应,淬灭、后处理、冻干得到替莫西林钠。
优选的,所述的替莫西林钠的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)替卡西林钠加入溶剂A搅拌溶解,即得替卡西林钠溶液;
(2)将甲氧基碱与溶剂B、投入干燥的反应瓶中,冷却到-30℃~-60℃,滴加上述替卡西林钠溶液与卤代试剂的混合液,滴毕于-30℃~-60℃反应2~5小时,淬灭、后处理、冻干得到替莫西林钠;其中化合物替莫西林钠的收率50%~65%,纯度大于95%。
其合成路线如下:
进一步优选的,步骤(1)中,所述的溶剂A为甲醇与二甲基亚砜、二甲基亚砜、四氢呋喃、乙腈中的一种或任意两种的混合液。
进一步优选的,步骤(2)中所述的溶剂B为甲醇、二甲基亚砜、四氢呋喃、乙腈、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的一种或任意两种的混合液;所述甲氧基碱为碱金属或碱土金属的甲醇盐;所述卤代试剂为N-氯代丁二酰亚胺、N-溴代丁二酰亚胺、N-碘代丁二酰亚胺、次氯酸叔丁酯、次溴酸叔丁酯、次碘酸叔丁酯中的一种或任意两种混合物。
进一步优选的,其特征在于:步骤(1)中,所述的替卡西林钠为替卡西林单钠或替卡西林二钠;所述的替卡西林钠与溶剂A的质量/体积比为1:(1~3)g/ml。
进一步优选的,步骤(2)中,所述的替卡西林钠与甲氧基碱的摩尔比为1: (1~3),所述的替卡西林钠与卤代试剂的摩尔比为1: (1~3)。
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C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物