[发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜、液晶取向膜的形成方法、液晶显示元件以及聚有机硅氧烷化合物有效
申请号: | 201410164585.0 | 申请日: | 2011-06-01 |
公开(公告)号: | CN104031655A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 秋池利之;中田正一;平井刚;菅野尚基 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | C09K19/56 | 分类号: | C09K19/56;G02F1/1337;C08G77/388 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 取向 形成 方法 液晶显示 元件 以及 有机硅 化合物 | ||
本发明是2011年6月1日申请的发明名称为“液晶取向剂、液晶取向膜、液晶取向膜的形成方法、液晶显示元件以及聚有机硅氧烷化合物”的第201110152309.9号发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种适合作为液晶取向膜形成材料的液晶取向剂、该液晶取向剂中使用的聚有机硅氧烷化合物、由该液晶取向剂所形成的液晶取向膜、液晶取向膜的形成方法以及具备该液晶取向膜的液晶显示元件。
背景技术
液晶显示元件具有耗电小,容易小型化和平面化等优点,因此可以广泛用于便携电话、液晶电视等液晶显示装置。作为液晶显示装置的显示方式,例如,在专利文献1~4中已经公开了根据液晶分子取向状态的变化,而具有扭曲向列型(TN型)、超扭曲向列型(STN型)、面内切换型(IPS型)、垂直取向型(VA型)等液晶盒的液晶显示元件。
上述各种液晶显示元件的运行原理可以大致区分为透过型和反射型。透过型是通过来自元件背面的背光源进行显示。该透过型液晶显示元件所具备的液晶取向膜,由于长时间暴露于来自背光源的光,因此在使用金属卤化物灯等照射强度高的背光源进行 照射时,存在有涉及温度上升而产生的缺陷。另一方面,反射型不使用背光源,而是通过太阳光等来自外部的光的反射光进行显示,因此与透过型相比耗电少,但其一直暴露于强紫外线。此外,在液晶显示元件的制造工序中,从缩减步骤等观点考虑,可以采用的液晶滴下方式,包括紫外线照射工序。因此,任一种液晶显示元件都要求优良的耐热性和耐光性。除此以外,近年来的液晶显示元件还希望其液晶取向性、电压保持率等电气特性优良,并且不会产生残像问题。
因此,开发出了一种由特定的聚硅氧烷溶液所形成,耐热性和耐光性优良的液晶取向膜的技术(参照专利文献5)。然而,随着近年来制造环境和使用环境越来越严格,即使采用该技术也无法满足上述要求性能,此外涂布液的保存稳定性也不足,因此不便于在工业中使用。
鉴于这种状况,希望开发一种作为液晶显示元件在实用方面充分满足所要求的液晶取向性、电压保持率和耐光性等特性,并且可以采用光取向法形成液晶取向膜的保存稳定性优良的液晶取向剂。
现有技术
[专利文献]
[专利文献1]日本特开平4-153622号公报
[专利文献2]日本特开昭60-107020号公报
[专利文献3]日本特开昭56-91277号公报
[专利文献4]美国第5928733号专利
[专利文献5]日本特开平9-281502号公报
[专利文献6]日本特开平6-287453号公报
[专利文献7]日本特开2003-307736号公报
[专利文献8]日本特开2004-163646号公报
发明内容
本发明基于上述情况而进行,其目的是提供一种作为液晶显示元件在实用方面充分满足所要求的液晶取向性、电压保持率和耐光性等特性的液晶取向膜;该液晶取向膜的形成方法;适合作为液晶取向膜形成材料的保存稳定性优良,并且可以采用光取向法形成液晶取向膜的液晶取向剂;以及具备液晶取向膜的液晶显示元件。
用于解决上述问题的发明是一种液晶取向剂,其含有具有哌啶结构、酚结构或苯胺结构的[A]聚有机硅氧烷化合物。
该液晶取向剂的保存稳定性优良,由该液晶取向剂所形成的液晶取向膜作为液晶显示元件在实用方面充分满足所要求的液晶取向性、电压保持率和耐光性等特性。
上述哌啶结构优选由下述式(A-1’)表示,酚结构优选由下述式(A-2’)表示,苯胺结构优选由下述式(A-3’)表示。
(式(A-1’)中,
R1为氢原子、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为6~20的芳基、碳原子数为7~13的芳烷基或1,3-二氧丁基。
R2~R5各自独立地为碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为6~12的芳基或碳原子数为7~13的芳烷基。
X1为单键、羰基或**-CONH-。X2~X5各自独立地为单键、羰基、**-CH2-CO-或**-CH2-CH(OH)-。**所表示的连接键与哌啶环连接。
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