[发明专利]一种具有防静电功能玻璃钢制品及制备方法有效
| 申请号: | 201410157657.9 | 申请日: | 2014-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN103963313A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
| 发明(设计)人: | 冯晋阳;庄瑛;杨振宇;邓友清;李云芬 | 申请(专利权)人: | 武汉共达材料科技有限公司 |
| 主分类号: | B29C70/34 | 分类号: | B29C70/34;B29C70/54;B29C70/02;C23C14/35;C23C14/18 |
| 代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 唐正玉 |
| 地址: | 430223 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 静电 功能 玻璃 钢制品 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种具有防静电功能玻璃钢制品及制备方法,具有此结构的玻璃钢制品可以有效消除制品使用过程中的静电荷积累,达到很好的防静电效果。
背景技术
玻璃钢由于具有很多优异的物理性能,因此在建材、电子、电力、航空和航天等领域得到了越来越广泛的应用。如在电力工业产品中开始大量采用耐久性较好的玻璃钢壳体作为外壳。但玻璃钢壳体容易产生静电和滞电现象,因此要求这些玻璃钢壳体表面应具有防静电功能。
目前,制备具有防静电功能玻璃钢制品的研究主要集中在两个方面:一是采用碳纤维取代玻璃纤维制备玻璃钢,由于碳纤维具有导电性,因此获得了表面电阻较低的玻璃钢;二是采用导电性胶体代替玻璃钢使用的树脂,玻璃纤维与导电胶体构成玻璃钢,其导电性由导电胶体来获得。上述两类方法存在以下一些问题:一个是碳纤维与玻璃纤维相比较,价格太贵,因此只适用于高端制品的制造;第二所使用的导电胶体,大部分是将碳粉或其他金属微粉加入树脂中得到,为获得所要求的导电性,所加入的导电性粉体数量较大,而这很容易产生胶体性能的下降。同时,上述两类方法所制备的玻璃钢制品的产品颜色大多数为单调的黑色,这大大影响了制品的使用范围。
发明内容
本发明的目的为了克服现有技术存在的问题和缺陷,提供一种具有防静电功能玻璃钢制品及制备方法,本发明充分利用玻璃钢中铺设的玻璃纤维,可以形成一个连通的网络结构,对其表面进行金属化处理后,将有效提高玻璃钢的导电性能。由于采用溅射镀膜的技术手段,在玻璃纤维表面形成薄的金属导电层,因此其生产成本很低,同时对于玻璃钢本身的性能不会产生影响。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:
一种具有防静电功能玻璃钢制品,其特征在于由以下各组分组成,各组分以质量份计:
所述的树脂为不饱和聚酯树脂。
所述的引发剂为过氧化甲乙酮。
所述的脱模剂为聚乙烯醇。
所述的无机填料为轻质碳酸钙、煅烧石英或滑石
所述的玻璃纤维为无碱玻璃纤维或中碱玻璃纤维。
具有防静电功能玻璃钢制品的制备方法,其特征在于按以下步骤进行:
(1)采用物理溅射方法在玻璃纤维表面沉积一层导电金属涂层而得到导电性能玻璃纤维;
(2)在模具表面涂刷脱模剂,待脱模剂干燥后,将60-90份的树脂、1-3份引发剂、120-230份无机填料混合调配成树脂胶液,将树脂胶液涂刷到模具表面,随即铺一层导电性能玻璃纤维,用毛刷将导电性能玻璃纤维压实,使导电性能玻璃纤维含胶量均匀,排出气泡;
(3)在第一层导电性能玻璃纤维树脂胶液凝结后,再在第一层导电性能玻璃纤维上涂刷树脂胶液,继续进行第二层玻璃纤维铺设,其后逐层糊制,每次糊制2~3层后,直到所需厚度;从第二层以后的每层所用的玻璃纤维均为普通的玻璃纤维;在常温下48h固化定型,脱模得到具有防静电功能玻璃钢制品。脱模后视其使用要求,对其进行后处理,如使用抛光机对其进行表面抛光等。
所述的物理溅射方法为磁控溅射、热蒸镀或激光沉积。
玻璃纤维表面沉积一层导电金属涂层的导电金属为金、银、铝、铜或铁。
所述的物理溅射方法的具体工艺参数如下:真空度小于1.0×10-3Pa,溅射气压Ar=1.0Pa,溅射功率80W,基片温度为397K,溅射时间20min。
本发明充分利用玻璃钢中铺设的玻璃纤维,可以形成一个连通的网络结构,对其表面进行金属化处理后,将有效提高玻璃钢的导电性能。由于采用溅射镀膜的技术手段,在玻璃纤维表面形成薄的金属导电层,因此其生产成本很低,同时对于玻璃钢本身的性能不会产生影响。
附图说明
图1为本发明制备的防静电功能玻璃钢制品的横截面构成图。
具体实施方式
本发明所用化学物质均为直接购买得到。
实例1:
1、按照下列配方进行玻璃钢制品的制备,各组分以质量份计:
2、采用铜靶对玻璃纤维进行表面磁控溅射,进行导电性玻璃纤维的制备,具体工艺参数如下:真空度小于1.0×10-3Pa,溅射气压Ar=1.0Pa,溅射功率80W,基片温度为397K,溅射时间20min;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉共达材料科技有限公司,未经武汉共达材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410157657.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





