[发明专利]一种用于硬盘磁头的抛光液及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抛光液及其制备方法，具体涉及一种用于硬盘磁头的抛光液及其制备方法。

背景技术

抛光时表面处理常用的方法之一，目的是为了消除表面的细微不平，使得表面具有镜面光泽。抛光不但能美化产品，还是保证产品质量、延长使用寿命及发展新品种的重要手段，有时也能起到产品升值的作用。

抛光可以分为机械抛光、化学抛光和电化学抛光，抛光液主要用于化学抛光和电化学抛光。机械抛光主要利用的是抛光轮与抛光膏的精细磨料对零件进行轻微切削和研磨，除去基体表面的细微不平，达到降低表面粗糙度的目的。抛光膏是由磨料和油脂两大部分组成的，由于所用的磨料不同，油脂种类的差异，使抛光膏形成了多种不同的产品，使用在不同的场合。

化学抛光时金属表面上微观的凸起处在化学抛光液中的溶解速度比在微观凹下去处的快，结果表面逐渐整平而获得光滑、光亮表面的过程。

电化学抛光是对金属制品表面进行精加工的一种电化学方法，即把金属工件置于所组成的电抛光液中，作为阳极进行处理，降低工件表面微观结构的粗糙度，从而获得镜面般的光泽表面。一般对于难以用机械、化学方式抛光的或形状较为复杂且光洁度要求高的工件多采用电化学抛光。

硬盘磁头抛光对质量的要求非常高，一般的抛光液使用后磁头表面容易发生失效现象。

发明内容

发明目的：本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种加工表面质量好，不会发生失效的用于硬盘磁头的抛光液。

本发明的另一目的在于提供这种用于硬盘磁头的抛光液的制备方法。

技术方案：本发明所述的用于硬盘磁头的抛光液，包括如下组分：纳米级金刚石粉1～3份，FA/O非离子活性剂0.5～4份，FA/O螯合剂0.5～5份，烃类溶剂90～150份，氧化剂0.3～2份，缓蚀剂0.2～0.5份，以重量份计。

优选地，所述纳米级金刚石粉颗粒直径为3～18nm。

优选地，所述烃类溶剂为白油。

优选地，所述氧化剂为过氧化氢。

优选地，所述缓蚀剂为甲基苯并三氮唑。

所述的用于硬盘磁头的抛光液的制备方法，包括如下步骤：

（1）将纳米级金刚石粉加入FA/O非离子活性剂，加热混合使粉体润湿；

（2）将步骤（2）得到的粉体加入到烃类溶剂中，并添加FA/O螯合剂、氧化剂和缓蚀剂，然后进行搅拌，超声分散均匀，得到用于硬盘磁头的抛光液。

优选地，步骤（1）中加热温度为50～80℃。

本发明与现有技术相比，其有益效果是：本发明制得的抛光液具有良好的悬浮稳定性，金刚石分散均匀性好，静置一年不会出现金刚石颗粒的沉积现象。本发明产品用于硬盘磁头的抛光工序，经过检测表明，磁头表面质量和性能均符合磁头抛光质量的要求，抛光效率高、质量好，不会出现失效现象。

具体实施方式

下面对本发明技术方案进行详细说明，但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。

实施例1：本发明用于硬盘磁头的抛光液，包括如下组分：纳米级金刚石粉2份，FA/O非离子活性剂1份，FA/O螯合剂3份，烃类溶剂100份，氧化剂1份，缓蚀剂0.3份，以重量份计。所述纳米级金刚石粉颗粒直径为3～18nm。所述烃类溶剂为白油。所述氧化剂为过氧化氢。所述缓蚀剂为甲基苯并三氮唑。

所述的用于硬盘磁头的抛光液的制备方法，包括如下步骤：

（1）将纳米级金刚石粉加入FA/O非离子活性剂，加热65℃混合使粉体润湿；

（2）将步骤（2）得到的粉体加入到烃类溶剂中，并添加FA/O螯合剂、氧化剂和缓蚀剂，然后进行搅拌，超声分散均匀，得到用于硬盘磁头的抛光液。

实施例2：本发明用于硬盘磁头的抛光液，其组分及制备方法同实施例1，不同点在于：纳米级金刚石粉1份，FA/O非离子活性剂0.5份，FA/O螯合剂0.5份，烃类溶剂90份，氧化剂0.3份，缓蚀剂0.5份。

实施例3：本发明用于硬盘磁头的抛光液，其组分及制备方法同实施例1，不同点在于：纳米级金刚石粉3份，FA/O非离子活性剂4份，FA/O螯合剂5份，烃类溶剂150份，氧化剂2份，缓蚀剂0.2份。

 如上所述，尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本发明，但其不得解释为对本发明自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本发明的精神和范围前提下，可对其在形式上和细节上作出各种变化。