[发明专利]一种激光微加工过程的反射式监测装置无效

专利信息
申请号: 201410153981.3 申请日: 2014-04-17
公开(公告)号: CN103920989A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 尉鹏飞;王楠;田其立;朱海永;黄晓虹;黄运米;金清理;杨光参 申请(专利权)人: 温州大学
主分类号: B23K26/03 分类号: B23K26/03;B23K26/70;B23K26/00
代理公司: 北京中北知识产权代理有限公司 11253 代理人: 李雪芳
地址: 325000*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 加工 过程 反射 监测 装置
【权利要求书】:

1.一种激光微加工过程的反射式监测装置,包括氦氖激光器(1),其特征在于:所述氦氖激光器(1)前端发射出的探测激光束(11)发射线路上设置有工件(2),所述工件(2)的探测激光束(11)反射线路上设置有第一光电探头(3),且氦氖激光器(1)前端探测激光束(11)发射线路中部设置有激光分束片(4),通过所述激光分束片(4)将探测激光束(11)具体分成参考信号(41)和反射光信号(42),反射光信号(42)经过被工件(2)的反射后进入第一光电探头(3),所述参考光信号(41)前端设置有第二光电探头(5),参考光信号(41)直接进入第二光电探头(5),所述第一光电探头(3)上固定设置有第一数据线(6),第二光电探头(5)上固定设置有第二数据线(7),所述第一数据线(6)和第二数据线(7)之间设置有示波器(8),且第一数据线(6)和第二数据线(7)均与示波器(8)电连接。

2.根据权利要求1所述的一种激光微加工过程的反射式监测装置,其特征在于:所述第一数据线(6)和第二数据线(7)载有工件信息的反射光信号通过第一数据线(6)进入示波器(8),同时参考光信号(41)通过第二数据线(7)进入示波器(8)。

3.根据权利要求1或2所述的一种激光微加工过程的反射式监测装置,其特征在于:所述氦氖激光器(1)发出的探测激光束,输出波长为632.8nm。

4.根据权利要求3所述的一种激光微加工过程的反射式监测装置,其特征在于:所述激光分束片(4)的分束比例为1:1。

5.根据权利要求4所述的一种激光微加工过程的反射式监测装置,其特征在于:所述示波器(8)为双通道示波器。

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