[发明专利]小面积高线性度成形电路有效
申请号: | 201410153558.3 | 申请日: | 2014-04-17 |
公开(公告)号: | CN103916080B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 王佳;高德远;魏廷存;高武;郑然;魏晓敏;胡永才 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | H03B5/12 | 分类号: | H03B5/12 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 面积 线性 成形 电路 | ||
1.一种小面积高线性度成形电路,包括电容C1、电容C2和运算放大器A,其特征在于:还包括一个NMOS晶体管Mdif和n个NMOS晶体管M1~Mn。电容C1的一端接形成电路的输入端Vin,电容C1的另一端接NMOS晶体管Mdif的漏极,NMOS晶体管Mdif的源极分别接运算放大器A的输入端、n个NMOS晶体管M1~Mn串联后的漏极和电容C2的一端。运算放大器A的输出端、n个NMOS晶体管M1~Mn串联后的源极和电容C2的另一端接形成电路的输出端Vout。NMOS晶体管Mdif和NMOS晶体管M1~Mn的栅极均连接到成形电路的时间调节控制电压Vadj上。电容C1和NMOS晶体管Mdif组成串联RC网络,电容C2和n个NMOS晶体管M1~Mn组成并联RC网络。
2.根据权利要求1所述的小面积高线性度成形电路,其特征在于:所述NMOS晶体管Mdif和NMOS晶体管M1~Mn的沟道长度和宽度相同。
3.根据权利要求1所述的小面积高线性度成形电路,其特征在于:所述NMOS晶体管M1~Mn中,NMOS晶体管Mj~Mn的沟道长度减小,沟道宽度保持不变。
4.根据权利要求1所述的小面积高线性度成形电路,其特征在于:所述NMOS晶体管M1~Mn中,NMOS晶体管Mj~Mn的沟道长度,沟道宽度保持不变,其栅极接固定电位。
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