[发明专利]一种适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法有效

专利信息
申请号: 201410147358.7 申请日: 2014-04-14
公开(公告)号: CN103898753A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 劳吉清;姚金荣;毕晓芳 申请(专利权)人: 苏州润弘贸易有限公司
主分类号: D06M15/11 分类号: D06M15/11;D06M11/79;D06M15/15;D06M15/263;D06M15/647;D06M13/342;D06M13/438;D06M101/06
代理公司: 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 代理人: 石敏
地址: 215104 江苏省苏州市吴中*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 棉织物 纺织 浆料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法。

背景技术

经纱上浆是织造工程的关键环节,浆纱的目的主要是提高纱线的耐磨性,减少毛羽,适当增加纱线的强力,减少伸度,以承受经纱在织造过程中受到的机械作用力,提高纱线的可织性。

目前经纱上浆的浆料主要有淀粉、聚乙烯醇(PVA)和聚丙烯酸类三大浆料。淀粉是天然多糖类高聚物,浆料成膜性好,与天然纤维亲和力强,易于退浆;但淀粉浆料浆纱强力不够,不耐磨,而且与涤纶纤维亲合力不够。聚乙烯醇浆料浆膜强力大,柔韧性好,浆液流动性好,但聚乙烯醇难以退浆,且对环境污染大。聚丙烯酸浆料是丙烯酸类单体的均聚物、共聚物和共混物的总称,其粘度较低、流动性好,对合成纤维有良好的粘附性,能与淀粉、PVA 浆料很好地混用,适用于各类纤维的经纱上浆,但是聚丙烯酸浆料价格高昂,推高印染企业的生产成本。

发明内容

本发明的目的在于:克服上述现有技术的缺陷,提出一种适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法。

为了达到上述目的,本发明提出的适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法,包括如下步骤:

第一步、将羟丙基变性淀粉与硅粉混合后加入去离子水中,并添加氢氧化钠和甲醇,进行水解后干燥提纯获得纳米二氧化硅改性淀粉,其中,羟丙基变性淀粉:硅粉:氢氧化钠:甲醇的质量配比为:110:6:0.2:0.4;

第二步、大豆蛋白加入浓度为0.3% 的氢氧化钠溶液中,40℃下匀速搅拌15分钟后滤去沉淀物后获得蛋白浆料;

第三步、按照重量配比,将纳米二氧化硅改性淀粉80份,蛋白浆料10份,聚丙烯酸酯乳液8份,改性硅油消泡剂2份倒入搅拌器内搅拌混合,即得;

所述改性硅油消泡剂由质量配比为1:15的聚醚与低含氢硅油在改性温度1000℃,改性时间1.5h下制得。

本发明适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法还具有如下改进:

1、第三步中,向搅拌器还倒入有5质量份的蛋白氨基酸。

2、第三步中,向搅拌器还倒入有2质量份的氨基磺酸钠。

3、第三步中,向搅拌器还倒入有2质量份的聚丙烯酸酯。

本发明工艺简单,制备的纺织浆料内含有纳米二氧化硅改性淀粉、蛋白浆料、聚丙烯酸酯乳液、改性硅油消泡剂,并且对这四种配料进行了配比限制,获得的浆料具有良好的成膜性和渗透性,实验表明制得的浆料特别适于高支棉织物的上浆,并且由于配方中不含聚乙烯醇,因此更加环保。

本发明方法制备获得的浆料中,将羟丙基变性淀粉与纳米二氧化硅进行了组合,一方面,羟丙基具有亲水性,能减弱淀粉颗粒结构的内部氢键强度,使其易于膨胀,糊化容易,糊液透明,流动性好,凝沉性弱,稳定性高,使浆料的成膜性更好,提高了浆料的上浆性能;另一方面纳米二氧化硅有助于淀粉在浆料中的分散,一定程度上也提高了浆料的上浆性能。加入的蛋白浆料与改性淀粉互相促进,以及配合使用的聚丙烯酸酯乳液,能够进一步提高浆料的上浆性能。针对前三种物料,本发明选用改性硅油消泡剂作为消泡剂,能够有效地消除上浆过程中产生的泡沫,使浆料更充分的与织物接触,提高上浆效率,节约浆料。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。

本实施例适用于高支棉织物的纺织浆料制备方法,包括如下步骤:

第一步、将羟丙基变性淀粉与硅粉混合后加入去离子水中,并添加氢氧化钠和甲醇,进行水解后干燥提纯获得纳米二氧化硅改性淀粉,其中,羟丙基变性淀粉:硅粉:氢氧化钠:甲醇的质量配比为:110:6:0.2:0.4;

第二步、大豆蛋白加入浓度为0.3% 的氢氧化钠溶液中,40℃下匀速搅拌15分钟后滤去沉淀物后获得蛋白浆料;

第三步、按照重量配比,将纳米二氧化硅改性淀粉80份,蛋白浆料10份,聚丙烯酸酯乳液8份,聚硅氧烷改性聚醚2份,蛋白氨基酸5份,氨基磺酸钠2份,聚丙烯酸酯2份倒入搅拌器内搅拌混合,即得。

本实施例中,改性硅油消泡剂由质量配比为1:15的聚醚与低含氢硅油在改性温度1000℃,改性时间1.5h下制得。

除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围。

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