[发明专利]光罩静电除尘装置在审
申请号: | 201410138291.0 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103926786A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 林辉;谢华;莫少文 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B03C3/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 除尘 装置 | ||
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种对光罩采用静电除尘的光罩静电除尘装置。
背景技术
总所周知,由于光刻工艺对光罩的要求极高,若光罩中存在一些颗粒将直接影响曝光的好坏。因此,光刻机中通常会设有一个自动检测光罩表面颗粒的系统模块,该系统模块能够检测出在曝光前后光罩玻璃面和图形面的颗粒大小以及颗粒位置,以此监测光罩的性能,防止存在的颗粒影响曝光工艺。
如果系统模块检测到光罩表面存在颗粒时,此时便需要将光罩取出光刻机,进行清理,现有技术中将光罩放入装有氮气枪的自动清扫装置中清扫,具体的采用氮气枪喷出氮气对光罩上的颗粒进行吹扫。
由于氮气枪的吹扫是对光罩表面所有位置的进行吹扫,并没有针对性,因此有可能将颗粒由原来的位置吹扫到其他的位置或外围没有图形的位置上,从而导致外围没有图形的位置的颗粒增加。事实上,光罩外围的颗粒会对光罩承载平台上的真空垫和光罩旋转装置的真空吸盘带来颗粒污染,这样将会对产品曝光时的套刻精度产生影响。
可见,现有技术中的清理方法并未真正清理去除位于光罩表面的颗粒。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光罩静电除尘装置,能够完全去除位于光罩表面的颗粒,确保曝光的精确度。
为了实现上述目的,本发明提出了一种光罩静电除尘装置,用于对光罩的表面进行除尘清理,所述装置包括:电源、阴极板和阳极板,其中所述阴极板与电源的负极相连,所述阳极板与电源的正极相连,所述光罩位于所述阴极板和阳极板之间。
进一步的,所述电源为50HZ的2相220V交流电。
进一步的,所述装置还包括升压变压器,所述升压变压器与所述电源相连。
进一步的,所述装置还包括整流器,所述整流器与所述升压变压器相连,用于将电流转换成直流电流。
与现有技术相比,本发明的有益效果主要体现在:在光罩上下表面分别放置阴极板和阳极板,并且在阴极板和阳极板两端施加一定的电压,使阴极板和阳极板之间形成高压电场,由于阴极发生放电,使带负电的气体离子在电力场的作用下向阳极板运动,在运动中与光罩表面的颗粒相碰,使颗粒荷以负电,荷电后的颗粒在电场力的作用下,亦向阳极板运动,使颗粒沉积于阳极板上,从而到达将光罩表面颗粒完全移除的目的。
附图说明
图1为本发明一实施例中光罩静电除尘装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的光罩静电除尘装置进行更详细的描述,其中表示了本发明的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明,而仍然实现本发明的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本发明的限制。
为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公知的功能和结构,因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中,必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标,例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1,在本实施例中提出了一种光罩静电除尘装置,用于对光罩的表面进行除尘清理,所述装置包括:电源、阴极板21和阳极板22,其中所述阴极板21与电源的负极相连,所述阳极板22与电源的正极相连,所述光罩10位于所述阴极板21和阳极板22之间。
在本实施例中,所述电源为50HZ的2相220V交流电。
在本实施例中,所述装置还包括升压变压器,所述升压变压器与所述电源相连。所述升压变压器用于将电源的电压升高,便于后续提供更强的电场,可以去除较大的颗粒11。
在本实施例中,所述装置还包括整流器,所述整流器与所述升压变压器相连,用于将电流转换成直流电流,从而方便将电流施加至所述阴极板21和阳极板22上。
在光刻机的自动检测光罩表面颗粒的固定件上,加装光罩静电除尘装置,在上端接上高压直流电源的阴极板21,在下端接上阳极板22。
具体工作流程包括:当光刻机的自动检测光罩颗粒装置检测到光罩10表面有大颗粒11产生时,自动启动光罩静电除尘装置,此时阴极板21和阳极板22之间形成高压电场,通过静电除尘方式将位于光罩10表面的颗粒11清理干净。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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