[发明专利]一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法在审

专利信息
申请号: 201410135481.7 申请日: 2014-04-04
公开(公告)号: CN103923340A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 万锕俊;黄然 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C08J9/26 分类号: C08J9/26;C08L25/06;C08L33/12
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 乳酸 降解 刻蚀 制备 多孔 高分子材料 方法
【权利要求书】:

1.一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,将聚乳酸与目标高分子材料共混加工后,通过降解除去材料内的聚乳酸区域,保留目标高分子,以得到开孔联通结构的多孔高分子材料的技术,其中目标高分子包括聚酯,聚醚,脂肪族聚合物等所有与聚乳酸有良好共混性及共同加工性能的高分子材料。

2.根据权利要求1所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,所述的方法具体包括以下步骤:

(1)将聚乳酸加工成易于分散共混的原料形态,包括微粒或纤维状;

(2)将微粒或纤维状聚乳酸与目标高分子材料混合,搅拌5-20分钟,超声振荡分散5-10分钟,至两组分共混分散均匀后,加工成型;

(3)将步骤(2)所得共混产物置于降解液中,定时称量监测所得产物的失重,至产物不再失重即得产品。

3.根据权利要求1或2所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,所述的聚乳酸被加工为微粒或纤维状,微粒尺寸为直径1微米-1毫米之间,纤维尺寸为直径1微米-200微米,长度200微米-2毫米之间,具体尺寸选用应与目标高分子的尺寸相当。

4.根据权利要求1或2所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,所述的聚乳酸与目标高分子材料的共混物中聚乳酸含量在50wt%-90wt%之间。

5.根据权利要求2所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,步骤(2)所述的加工成型采用常规塑料加工工艺成型,包括双螺杆挤出或注射成型等,加工成型温度在140-200℃。

6.根据权利要求2所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孑高分子材料的方法,其特征在于,步骤(3)所述降解液包括浓度0.01mol/L-1mol/L的盐酸、硫酸或硝酸溶液,0.01mol/L-1mol/L的氢氧化钠或氢氧化钾溶液,水,或浓度为0.01mol/L-1mol/L盐溶液。

7.根据权利要求1或2所述的一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法,其特征在于,所述的目标高分子材料包括聚酯,聚醚或脂肪族聚合物。

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