[发明专利]低温泵及真空排气方法

说明书

本申请主张基于2013年5月27日申请的第2013-111346号日本专利申请的优先权。该日本专利申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种低温泵及真空排气方法。

背景技术

低温泵为通过冷凝或吸附将气体分子捕捉到被冷却至超低温的低温板上以进行排气的真空泵。低温泵一般用于实现半导体电路制造工艺等中要求的清洁的真空环境。作为低温泵的应用之一，例如离子注入工序，例如氢等非冷凝性气体有时占应排出气体的一大半。非冷凝性气体只有吸附在被冷却至超低温的吸附区域才能够排出。

专利文献1：日本特开2012-237262号公报

专利文献2：日本特开2010-84702号公报

发明内容

本发明的一种实施方式的例示性目的之一在于，提供一种能够高速排出非冷凝性气体的低温泵及真空排气方法。

根据本发明的一种实施方式，提供一种低温泵，其中，该低温泵具备：吸附低温板，具备接收非冷凝性气体的入射的前表面和具备非冷凝性气体的吸附区域的背面；以及反射低温板，具备与所述背面对置的非冷凝性气体的反射面，所述吸附低温板具有多个从所述前表面贯穿至所述背面的孔。

根据本发明的一种实施方式，提供一种低温泵，其中，该低温泵具备：吸附低温板，具备接收非冷凝性气体的入射的前表面和具备非冷凝性气体的吸附区域的背面；以及反射低温板，具备与所述背面对置的非冷凝性气体的反射面，所述吸附低温板具有10%以上70%以下的非冷凝性气体的通过概率。

根据本发明的一种实施方式，提供一种真空排气方法，其排出非冷凝性气体，其中，所述方法具备以下步骤：通过吸附低温板，将非冷凝性气体接收在所述吸附低温板与和该吸附低温板相邻的低温板之间，其中，所述吸附低温板具有10%以上70%以下的非冷凝性气体的通过概率；利用所述相邻的低温板反射非冷凝性气体；以及将反射后的非冷凝性气体吸附在所述吸附低温板上。

另外，将以上构成要件的任意组合或本发明的构成要件或表现形式在方法、装置及系统等之间相互替换的技术也作为本发明的方式有效。

根据本发明，提供一种能够高速排出非冷凝性气体的低温泵及真空排气方法。

附图说明

图1是概略表示本发明的第1实施方式所涉及的低温泵的主要部分的图。

图2是本发明的第1实施方式所涉及的吸附低温板的俯视图。

图3是概略表示本发明的第1实施方式所涉及的低温泵的主要部分的图。

图4是例示本发明的第1实施方式所涉及的吸附低温板结构的排气概率与吸附低温板的通过概率之间的关系的图表。

图5是示意表示本发明的第2实施方式所涉及的低温泵的主要部分的剖视图。

图6是示意表示本发明的第3实施方式所涉及的低温泵的主要部分的剖视图。

图7是示意表示本发明的第3实施方式所涉及的低温板的立体图。

图8是示意表示本发明的第4实施方式所涉及的低温泵的主要部分的剖视图。

图9是示意表示本发明的第5实施方式所涉及的低温泵的主要部分的剖视图。

图中：1-低温泵，2-吸附低温板，3-反射低温板，4-前表面，5-背面，7-反射面，8-吸附低温板结构，10-低温泵，12-吸气口，16-制冷机，30-放射屏蔽件。

具体实施方式

以下，参考附图对本发明的实施方式进行详细说明。另外，说明中对相同要件标注相同的符号，并适当省略重复说明。

图1是概略表示本发明的第1实施方式所涉及的低温泵1的主要部分的图。为简单明了，图1中仅示出吸附低温板2及反射低温板3。图1示出包括低温泵1的中心轴的截面。

吸附低温板2具备前表面4及背面5。前表面4被配置成接收非冷凝性气体分子（例如氢分子）的入射。背面5具备非冷凝性气体的吸附区域。吸附区域例如为设置有适于吸附非冷凝性气体的吸附剂（例如活性炭）的区域。

图2是本发明的第1实施方式所涉及的吸附低温板2的俯视图。吸附低温板2具有多个贯穿孔6。吸附低温板2可以为圆形的冲孔板或开孔板。贯穿孔6从前表面4向背面5贯穿吸附低温板2而形成。图示的贯穿孔6遍及整个吸附低温板2均匀分布。在图示的吸附低温板2中，贯穿孔6为排列成格子状的圆形的开口。