[发明专利]制造图案化的透明导体的方法

权利要求书

1.一种制造图案化导体的方法，该方法包括：

提供导电的基材，其中所述导电的基材包括基材和导电层；

提供导电层蚀刻剂；

提供纺丝材料；

提供遮蔽纤维溶剂；

形成大量遮蔽纤维并将该大量遮蔽纤维沉积在所述导电层上；

任选地，在所述导电层上压制所述大量遮蔽纤维；

将该导电层暴露在所述导电层蚀刻剂中，其中将未被所述大量遮蔽纤维覆盖的导电层从所述基材中去除，在由所述大量遮蔽纤维覆盖的基材上留下互相连通的导电网络；和，

将所述大量遮蔽纤维暴露在所述遮蔽纤维溶剂中，其中将所述大量遮蔽纤维去除以使基材上互相连通的导电网络不被覆盖。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图案化导体是图案化的透明导体，其中所述导电的基材包括透明基材和导电层。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述导电层是导电金属层，所述导电金属层选自下组：银、铜、钯、铂、金、锌、硅、镉、锡、锂、镍、铟、铬、锑、镓、硼、钼、锗、锆、铍、铝、镁、锰、钴、钛、以及上述金属的合金和氧化物。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述大量遮蔽纤维通过选自以下方法形成并沉积在所述导电层上：静电纺丝、熔喷、气体射流纺丝、气体射流静电纺丝、离心纺丝、无针静电纺丝和熔融静电纺丝。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述互相连通的导电网络是在基材上的一个受控制的图案。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述受控制的图案是规则图案。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述受控制的图案是不规则图案。

8.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述导电层是银。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述图案化的透明导体具有>80%的总透光率；<5%的雾度；和<5Ω/sq的薄层电阻。

10.一种图案化的透明导体，通过如权利要求1所述的方法制备。