[发明专利]一种低蚀刻的去除光阻蚀刻残留物的清洗液

权利要求书

1.一种低蚀刻的去除光阻蚀刻残留物的清洗液，其特征在于，包含醇胺，醇醚，水，螯合剂以及肼及其衍生物。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺的含量为质量百分比20-70%，所述的醇醚含量为质量百分比1-50%，所述的水含量为小于质量百分比40%，所述的螯合剂含量为质量百分比0.1-10%；所述的肼及其衍生物含量为质量百分比0.1-15%。

3.如权利要求2所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺的含量为质量百分比20-60%，所述的醇醚含量为质量百分比1-40%，所述的水含量为小于质量百分比1-35%，所述的螯合剂含量为质量百分比0.5-10%；所述的肼及其衍生物含量为质量百分比0.2-10%。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇醚为二乙二醇单烷基醚和/或二丙二醇单烷基醚。

6.如权利要求5所述的清洗液，其特征在于，其中所述的二乙二醇单烷基醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和二乙二醇单丁醚；所述的二丙二醇单烷基醚为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和二丙二醇单丁醚。

7.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的螯合剂为邻苯二酚、没食子酸、对羟基苯甲酸、邻苯三酚、5-甲氧基邻苯三酚、5-叔丁基邻苯三酚、5-羟甲基邻苯三酚、乙二胺四乙酸、反-1,2-环已二胺四乙酸、乙二醇双（2-氨基乙基）四乙酸、柠檬酸、琥珀酸、乳酸、酒石酸、没食子酸甲酯、1-没食子酸甘油酯中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的肼及其衍生物较佳的为水合肼、苯甲酰肼、乙醇肼、碳酸肼、水杨酰肼、草酰二肼、丁二酸二酰肼、己二酸二酰肼、丙二酰肼、对肼基苯甲酸、乙酸肼中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的水为去离子水，蒸馏水，超纯水的一种或多种。

10.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的清洗液不含有羟胺和氟化物。

11.一种如权利要求1-10任一项所述的清洗液在去除光阻残留物的应用。