[发明专利]喷水织机动能补偿结构有效
| 申请号: | 201410092955.4 | 申请日: | 2014-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN103820927A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
| 发明(设计)人: | 沈志平 | 申请(专利权)人: | 湖州润源丝织有限公司 |
| 主分类号: | D03D47/32 | 分类号: | D03D47/32 |
| 代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 连围 |
| 地址: | 313014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 喷水 织机 动能 补偿 结构 | ||
所属技术领域
本发明涉及纺织机械领域,特别地,是一种用于喷水织机喷头的动能补偿结构。
背景技术
无梭织机是继有梭织机之后,诞生的一种新型织机。无梭织机以其分量轻、振动小、噪音低、车速快、效率高等优点,迅速占领了织机市场。无梭织机的引纬方式是多种多样的,有剑杆、喷射(喷气、喷水)、片梭、多梭口(多相)和编织等方式。
喷水织机属于喷射织机,是利用水作为引纬介质,通过喷射水流对纬纱产生摩擦牵引力,使固定筒子上的纬纱引入梭口。喷水织机的水流集束性好,加之水对纬纱的摩擦牵引力也大,因此使喷水织机的纬纱飞行速度、织机速度都居各类织机之首。由于水流的集聚性较好,喷水织机上没有任何防水流扩散装置,即使这样它的筘幅也能达到两米多。但是使用喷水织机作为引纬的方式将耗费大量的水,同时在纬纱飞行中,纬纱并不会按直线前进而且动能衰减更快。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种喷水织机动能补偿结构,该喷水织机动能补偿结构能够在纬纱飞行中补充动能。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
该喷水织机动能补偿结构包括设置在织机投纬端的喷嘴,所述喷嘴包括喷嘴芯和围绕在所述喷嘴芯口部外侧的导纱管,所述喷嘴芯通过纬纱,所述喷嘴芯外侧和所述导纱管内侧形成的高压空间内有高压水流通过,所述高压空间连通一供应所述高压水流的进水通道,所述导纱管的口部均布有轴线平行于所述导纱管轴线的第二喷口,所述第二喷口与所述进水通道连通。
作为优选,所述第二喷口的数量为偶数个。
作为优选,所述第二喷口内设置有电磁阀,所述电磁阀在投纬时间断的开闭所述第二喷口。
作为优选,每次投纬时,所述第二喷口喷出的高压水流晚于所述导纱管喷出的高压水流。
本发明的优点在于:
利用所述第二喷口喷射的高压水流围绕运动的纬纱,所述高压水流由于和纬纱同向运动,因此,高压水流和纬纱之间的空气由于被挤在一起,空气的流速要比外部大一些,压强就要比外部小一些。这样,空气的压力差将使高压水流和纬纱在运动中结合,在投纬末端,高压水流将补充纬纱动能的不足和修正纬纱轨迹的偏移。
附图说明
图1是本喷水织机动能补偿结构的侧视结构示意图。
图2是本喷水织机动能补偿结构图1的A-A剖视结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:
在本实施例中,参阅图1和图2,该喷水织机动能补偿结构包括设置在织机投纬端的喷嘴,所述喷嘴包括喷嘴芯300和围绕在所述喷嘴芯300口部外侧的导纱管100,所述喷嘴芯300通过纬纱10,所述喷嘴芯300外侧和所述导纱管100内侧形成的高压空间内有高压水流通过,所述高压空间连通一供应所述高压水流的进水通道120,所述导纱管100的口部均布有轴线平行于所述导纱管100轴线的第二喷口200,所述第二喷口200与所述进水通道120连通。
上述喷水织机动能补偿结构,所述第二喷口200的数量为偶数个,偶数个所述第二喷口200可以使第二喷口200喷出的高压水流对称的分布在纬纱10轴线周围,可以抵消纬纱10对对称的两股高压水流的吸引,防止纬纱10偏移运动轨迹。
上述喷水织机动能补偿结构,所述第二喷口200内设置有电磁阀210,所述电磁阀210在投纬时间断的开闭所述第二喷口200,间断的高压水流能够减少水的使用量。
上述喷水织机动能补偿结构,每次投纬时,所述第二喷口200喷出的高压水流晚于所述导纱管100喷出的高压水流,由于纬纱10的横截面较大,因此受到的空气阻力相对于所述第二喷口200喷出的高压水流所受的空气阻力更大,因此纬纱10速度的衰弱较高压水流更快,因此高压水流晚于纬纱10喷出,高压水流的头部才能在投纬的末端与纬纱10结合,否则高压水流的头部将快于纬纱10的头部。
上述喷水织机动能补偿结构的原理:
投纬时,第二喷口喷出高压水流,喷嘴芯300喷出纬纱10和高压水流的结合物,高压水流和纬纱10之间的空气由于被挤在一起,空气的流速要比外部大一些,压强就要比外部小一些。这样,空气的压力差将使高压水流和纬纱10在运动中结合,在投纬末端,高压水流将补充纬纱10动能的不足和修正纬纱10轨迹的偏移。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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