[发明专利]偏振膜的制造方法无效
申请号: | 201410068383.6 | 申请日: | 2012-03-19 |
公开(公告)号: | CN103897208A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 森保二郎;风藤修;日笠慎太郎;胜野良治 | 申请(专利权)人: | 可乐丽股份有限公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;G02B5/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 高旭轶;孟慧岚 |
地址: | 日本冈山县*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 制造 方法 | ||
1.偏振膜的制造方法,其特征在于,对满足下式(I)和(II)的聚乙烯醇系聚合物薄膜进行染色、单轴拉伸、固定处理和干燥处理;
Δn(MD)Ave—0.1×10-3≤Δn(TD)Ave≤Δn(MD)Ave+0.25×10-3 (I)
Δn(TD)Ave≤2.5×10-3 (II)
上式中,Δn(MD)Ave表示聚乙烯醇系聚合物薄膜的机械流动方向的双折射率在该膜的厚度方向上平均化而得的值,Δn(TD)Ave表示聚乙烯醇系聚合物薄膜的宽度方向的双折射率在该膜的厚度方向上平均化而得的值。
2.偏振膜的制造方法,其特征在于,对满足下式(I)和(II)、且进一步满足下式(III)的聚乙烯醇系聚合物薄膜进行染色、单轴拉伸、固定处理和干燥处理;
Δn(MD)Ave—0.1×10-3≤Δn(TD)Ave≤Δn(MD)Ave+0.25×10-3 (I)
Δn(TD)Ave≤2.5×10-3 (II)
1.3×10-3≤Δn(MD)Ave≤2.0×10-3 (III)
上式中,Δn(MD)Ave表示聚乙烯醇系聚合物薄膜的机械流动方向的双折射率在该膜的厚度方向上平均化而得的值,Δn(TD)Ave表示聚乙烯醇系聚合物薄膜的宽度方向的双折射率在该膜的厚度方向上平均化而得的值。
3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法,用于偏振膜的制造的所述聚乙烯醇系聚合物的厚度在30~65μm的范围内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于可乐丽股份有限公司,未经可乐丽股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410068383.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:1000kV 电磁式电压互感器
- 下一篇:一种组合式计量保护一体互感器