[发明专利]一种晶片烘干系统

权利要求书

1.一种晶片烘干系统，包括底座(12)、加热器(3)、烘干室(10)和通过烘干室(10)的传送带(15)，其特征在于，还包括送风机(1)、循环风机(7)、热风腔(4)和控制阀(5)，所述传输带(15)的上段设有用于承载晶片承载器(17)，所述晶片容纳在所述晶片承载器(17)中，所述传输带(15)的上段的两侧朝向所述传输带(15)的中央向上或向下倾斜，所述传送带(12)上设有微波加热层(13)，所述热风腔(4)两端分别与所述送风机的出风口(2)和所述循环风机的出风口(6)连接，所述热风腔(4)与所述烘干室(10)之间设有回风口(11)和多个送风口(9)，所述送风口(9)设有控制进风流量的控制阀(5)，所述控制阀(5)之间设有雾化喷头(14)，所述回风口(11)与所述循环风机的进风口相连，所述加热器(3)位于所述热风腔(4)与所述送风机的出风口(2)的连接处，所述送风机(1)可为变频送风机，所述循环风机(7)可为变频循环风机，所述送风机的进风口(8)处可设有过滤器，所述加热器(3)可为电热管式加热器，所述雾化喷头(14)上端连接有导管(8)，所述导管(8)上设有进水口(16)，所述烘干室(10)两侧均设有可升降的门。

2.根据权利要求1所述的一种晶片烘干系统，其特征在于，所述送风机和所述循环风机(7)均为洁净强冷风干燥风机。

3.根据权利要求1所述的一种晶片烘干系统，其特征在于，所述传送带(15)下底面涂抹有高能辐射涂料层。

4.根据权利要求1所述的一种晶片烘干系统，其特征在于，所述底座(12)上设有控制屏，所述送风机(1)、循环风机(7)、热风腔(4)和控制阀(5)、传送带(15)、雾化喷头(14)加热器(3)、控制阀(5)、微波加热层(13)均通过导线与控制屏相连。

5.根据权利要求1所述的一种晶片烘干系统，其特征在于，所述雾化喷头(14)内设有水质净化装置。

6.根据权利要求1所述的一种晶片烘干系统，其特征在于，所述烘干室(10)内还设有粉尘检测装置。