[发明专利]一种蚀刻药水监控方法及装置

说明书

本发明适用于蚀刻药水监控技术领域，提供了一种蚀刻药水监控方法及装置，所述方法包括：获取蚀刻药水添加过程中的监控信息，所述监控信息包括工艺参数；在所述监控信息中提取工艺参数，根据所述工艺参数生成预设格式的监控文件；其中，所述工艺参数包括比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值、比重上限值、盐酸上限值、氧化剂上限值、比重目标值、盐酸目标值、氧化剂目标值、比重下限值、盐酸下限值、氧化剂下限值之一或其组合。本发明可以直观显示系统运行的实时状态，对蚀刻添加系统运行的稳定性进行实时反馈，后续用户可以根据系统运行的实时状态以及保存的历史参数，对控制系统运行的稳定性进行调整。

技术领域

本发明属于蚀刻药水监控技术领域，尤其涉及一种蚀刻药水监控方法及装置。

背景技术

在印制电路板生产线上，通常采用蚀刻药水对印制电路板进行蚀刻。目前市面上蚀刻药水添加系统，一般使用多个互相独立的药水分析仪，对蚀刻药水进行分析及子液添加令药水保持活性，以满足电路板生产商自动化电路板生产的质量要求。

然而，蚀刻添加系统没有直观显示系统运行的实时状态，从而无法对蚀刻添加系统运行的稳定性进行反馈，从而用户无法根据系统运行的实时状态，对控制系统运行的稳定性进行调整。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种蚀刻药水监控方法，旨在解决现有的蚀刻添加系统没有直观显示系统运行的实时状态，无法对蚀刻添加系统运行的稳定性进行反馈，用户无法根据系统运行的实时状态，对控制系统运行的稳定性进行调整的问题。

本发明实施例是这样实现的，一种蚀刻药水监控方法，包括：

获取蚀刻药水添加过程中的监控信息，所述监控信息包括工艺参数；

在所述监控信息中提取工艺参数，根据所述工艺参数生成预设格式的监控文件；

其中，所述工艺参数包括比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值、比重上限值、盐酸上限值、氧化剂上限值、比重目标值、盐酸目标值、氧化剂目标值、比重下限值、盐酸下限值、氧化剂下限值之一或其组合；

其中，比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；

其中，所述预设格式包括表格、柱形图、折线图、饼图中的一种或多种。

本发明实施例的另一目的在于提供一种蚀刻药水监控装置，包括：

第一获取单元，用于获取蚀刻药水添加过程中的监控信息，所述监控信息包括工艺参数；

生成单元，用于在所述监控信息中提取工艺参数，根据所述工艺参数生成预设格式的监控文件；

其中，所述工艺参数包括比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值、比重上限值、盐酸上限值、氧化剂上限值、比重目标值、盐酸目标值、氧化剂目标值、比重下限值、盐酸下限值、氧化剂下限值之一或其组合；

其中，比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值，盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值，氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值；

其中，所述预设格式包括表格、柱形图、折线图、饼图中的一种或多种。

在本发明实施例中，在所述监控信息中提取工艺参数，根据所述工艺参数生成预设格式的监控文件，以使蚀刻添加系统可以直观显示系统运行的实时状态，对蚀刻添加系统运行的稳定性进行实时反馈，后续用户可以根据系统运行的实时状态，对控制系统运行的稳定性进行调整。

附图说明