[发明专利]亚甲基富勒烯

权利要求书

1.一种包含以下通式的亚甲基富勒烯：

其中x是10-48，y是1-6，n是0-1，烷基是具有1-16个碳原子的支链或无支链的、取代或未取代的二价烷基链，有或没有一个或多个取代进入该链的杂原子，芳基是取代或未取代的二价苯基、杂芳基、或稠合芳基或稠合杂芳基，并且R是H或对酸敏感的基团。

2.如权利要求1所述的亚甲基富勒烯，其中该二价烷基链包含亚甲基、亚乙基或1,3-亚丙基。

3.如权利要求1所述的亚甲基富勒烯，其中R是H或叔丁基碳酸酯基团。

4.如权利要求1所述的亚甲基富勒烯，其中该对酸敏感的基团选自烷氧基羰基或乙烯基醚基。

5.一种负型光致抗蚀剂组合物，该组合物包含：

a.至少一种包含以下通式的亚甲基富勒烯：

其中x是10-48，y是1-6，n是0-1，烷基是具有1-16个碳原子的支链或无支链的、取代或未取代的二价烷基链，有或没有一个或多个取代进入该链的杂原子，芳基是取代或未取代的二价苯基、杂芳基、或稠合芳基或稠合杂芳基，并且R是H或对酸敏感的基团，

b.至少一种光致酸生成剂，

c.至少一种交联剂，以及

d.至少一种溶剂，

其中该交联剂在处理时至少与该亚甲基富勒烯交联。

6.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中该二价烷基包含亚甲基、亚乙基或1,3-亚丙基。

7.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中R是H或叔丁基碳酸酯基团。

8.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中该对酸敏感的基团是烷氧基羰基或乙烯基醚基。

9.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中该至少一种光致酸生成剂包含鎓盐化合物、砜酰亚胺化合物、含卤素化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、奎宁-二叠氮化合物、或重氮甲烷化合物。

10.如权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物，其中该至少一种光致酸生成剂包含三苯基锍鎓盐。

11.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，进一步包含酚醛清漆、聚羟基苯乙烯、聚丙烯酸酯、或马来酸酐酯-酸聚合物交联添加剂。

12.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中该至少一种交联剂包含一种酸敏单体或聚合物。

13.如权利要求12所述的光致抗蚀剂组合物，其中该交联剂包含缩水甘油醚、缩水甘油酯、缩水甘油胺、甲氧基甲基、乙氧基甲基、丁氧基甲基、苄氧基甲基、二甲基氨基甲基、二乙基氨基甲基、二丁氧基甲基、二羟甲基氨基甲基、二羟乙基氨基甲基、二羟丁基氨基甲基、吗啉代甲基、乙酰氧基甲基、苄氧基甲基、甲酰基、乙酰基、乙烯基或异丙烯基中的至少一种。

14.如权利要求12所述的光致抗蚀剂组合物，其中该交联剂包含一个或多个附接到酚醛清漆树脂的缩水甘油醚基团。

15.如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，其中该溶剂包含酯类、醚类、醚-酯类、酮类、酮酯类、烃类、芳香族化合物类、以及卤化的溶剂类。

16.如权利要求5所述的光致抗蚀剂，进一步包含至少一种包含以下通式的亚甲基富勒烯：

C_2x(>C-(COO-(CH₂CH₂-O)_a-R)₂)_y

其中x是10-48，y是1-6，a是1-10并且R是H或对酸敏感的基团并且其中该-CH₂CH₂-O-可以任选地被氟原子取代。

17.一种在衬底上形成图案化的抗蚀剂层的方法，该方法包括以下步骤：

a.提供一个衬底，

b.施用如权利要求5所述的光致抗蚀剂组合物，直到所希望的湿厚度，

c.加热该涂覆的衬底以除去该溶剂的大部分以获得所希望的厚度，

d.将该涂层成像暴露于光化辐射，

e.除去该涂层的未曝光区域，并且

f.任选地加热剩余的涂层。