[发明专利]带有折箱干涉测量换能器的微气压计有效
申请号: | 201380067937.4 | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN104884921B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | S·奥利维尔;D·庞塞奥 | 申请(专利权)人: | 原子能及能源替代委员会 |
主分类号: | G01L7/06 | 分类号: | G01L7/06;G01L11/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 郭思宇 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 干涉 测量 换能器 气压计 | ||
1.一种折箱式微气压计,包括:
参考底座(11、21);
折箱(12、22),该折箱的一端固定在该底座的参考表面上,该折箱的延伸方向与该参考表面垂直;
将该折箱的另一端封闭的盖板(13、23),以便使该折箱与外界密封隔离,折箱处于长度变化与其周围次声波引起的压力变化成正比的状态;
与盖板连成一体的反射部件(14、24);
被布置为与盖板(13、23)正对着的干涉测量元件(16、26),带有正对着反射部件的、与折箱的延伸方向平行的输入-输出光路,能够接收来自于光源的光束,并与底座的参考表面联结,以便能向该反射部件发射部分光束并在该光束被该反射部件反射后接收该光束,该干涉测量元件采用集成技术,在同一基片内包含光导路线(31、33、34、39、36、41、42、44、45)、光分离区和光合并区(32、38、35、40、43),
该微气压计的干涉测量元件由二氧化硅基片构成,二氧化硅基片中的一些区域经过改变以便形成所述光导路线、分离区和合并区。
2.根据权利要求1所述的微气压计,该微气压计的折箱(12)位于参考表面和干涉测量元件(16)之间,反射部件(14)安装在盖板的外表面上。
3.根据权利要求2所述的微气压计,其中干涉测量元件通过布置在折箱周围的小圆柱(11A)与参考表面连成一体。
4.根据权利要求3所述的微气压计,该微气压计的小圆柱由金属与因瓦合金混合制成,遵循比例使得小圆柱垂直于参考表面的热膨胀系数与折箱的热膨胀系数基本上相等。
5.根据权利要求1所述的微气压计,该微气压计的集成光学的反射部件(24)和干涉测量元件(26)位于折箱(22)的内部,反射部件(24)安装于盖板的内表面,并且干涉测量元件沿着底座的参考表面。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的微气压计,还包括围绕折箱和干涉测量元件的外罩(58),该外罩固定于底座上,包括在环绕折箱的壳体内的空气进入孔(60),以及能够与单色且相干发光源和干涉测量信号处理设备光连接的连接导管(57)。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的微气压计,微气压计的集成光学干涉测量元件包括用于输入信号的输入和四个输出,即两个正交干涉测量信号的输出、一个部分输入信号的输出、一个反射部件反射后的信号的输出。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的微气压计,其中反射部件是平面镜。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的微气压计,其中折箱的腔体是粗真空。
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