[发明专利]用于有机电子器件的基板

权利要求书

1.一种用于有机电子器件的基板，包括：

第一聚合物基底层，所述第一聚合物基底层对于633nm波长的光的折射率为1.7至1.8；

光学功能层，其形成于所述第一聚合物基底层上，并具有10％至50％的雾度；以及

高折射层，其包括形成于所述光学功能层的上方并且对于633nm波长的光的折射率为1.7以上的平坦化层、以及形成于所述平坦化层的上方的并且对于633nm波长的光的折射率为1.7至1.8的第二聚合物基底层，

其中所述第一聚合物基底层和所述第二聚合物基底层均包含聚酰亚胺。

2.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中，

所述光学功能层是光散射层。

3.根据权利要求2所述的用于有机电子器件的基板，其中，

所述光散射层包括基体材料和具有与所述基体材料不同的折射率的散射颗粒。

4.根据权利要求2所述的用于有机电子器件的基板，其中，

所述光散射层是具有凹凸结构的层。

5.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中，

所述平坦化层包含聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚硅氧烷或环氧树脂。

6.根据权利要求5所述的用于有机电子器件的基板，其中，

所述平坦化层还包括对于633nm波长的光的折射率为1.8以上且平均粒径为50nm以下的颗粒。

7.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，还包括载体基板，

其中所述载体基板与所述第一聚合物基底层的与所述光学功能层成相反侧的面相接触。

8.一种用于有机电子器件的基板的制造方法，包括：

在载体基板上形成第一聚合物基底层，所述第一聚合物基底层对于633nm波长的光的折射率为1.7至1.8，

在所述第一聚合物基底层上形成雾度为10％至50％的光学功能层，以及

在所述光学功能层上形成高折射层，所述高折射层包括形成于所述光学功能层的上方并且对于633nm波长的光的折射率为1.7以上的平坦化层、以及形成于所述平坦化层的上方的并且对于633nm波长的光的折射率为1.7至1.8的第二聚合物基底层，

其中所述第一聚合物基底层和所述第二聚合物基底层均包含聚酰亚胺。

9.根据权利要求8所述的用于有机电子器件的基板的制造方法，其中，

所述第一聚合物基底层通过在所述载体基板上层压聚合物膜而形成，或者通过在所述载体基板上涂布包含聚合物的涂布溶液而形成。

10.一种有机电子装置，包括：

权利要求1所述的用于有机电子器件的基板；

形成于所述用于有机电子器件的基板的高折射层上的第一电极；

形成于所述第一电极上的功能有机层；以及

形成于所述功能有机层上的第二电极。

11.一种有机电子装置的制造方法，包括：

在根据权利要求8的方法所制造的用于有机电子器件的基板上，依次形成第一电极、功能有机层和第二电极。

12.一种用于显示器的光源，包括：

权利要求10所述的有机电子装置。

13.一种照明器具，包括：

权利要求10所述的有机电子装置。