[发明专利]真空泵

说明书

本发明涉及一种真空泵（10），其包括涡轮分子泵送机构（14），其中涡轮分子泵送机构的工作特性取决于真空泵的方位，并且该泵包括用于感测方位的方位传感器（28）。

技术领域

本发明涉及真空泵。

背景技术

涡轮分子泵送机构在真空泵中的使用是已知的。涡轮分子泵送机构一般用于产生具有在大约10^-3至10^-10 mbar（毫巴）之间的压力的高真空或超高真空。为了产生这种高真空，通过驱动轴使转子叶片在高转速、例如在大约每分钟20,000至90,000转之间的转速下旋转。涡轮分子泵送机构需要精密制造工艺和紧公差以实现这种高速和真空。

发明内容

本发明提供了一种改进的真空泵。

本发明提供了一种真空泵，其包括涡轮分子泵送机构和用于感测真空泵的方位的方位传感器。

优选的示例中的方位传感器是加速度计，在这种情况下，加速度计可以另外设置成感测施加至泵的冲击，以确定对这些冲击敏感的泵的状态。

附图说明

为了能够较好地理解本发明，现在将参照附图对仅仅作为示例给出的一些实施方式进行描述，在附图中：

图1是真空泵的示意图；

图2更详细地示出了在真空泵的一种方位下真空泵的方面；

图3示出了在真空泵的另一种方位下真空泵的相同的方面；

图4示出了在真空泵的又一种方位下真空泵的相同的方面；

图5示出了真空泵的控制系统；

图6示出了另一个真空泵的示意图；

图7更详细地示出了图6的真空泵的轴承组件；以及

图8示出了图6中的真空泵的驱动轴的支承（back-up）轴承组件限制运动。

具体实施方式

参照图1，示出了用于排空真空系统的壳体12的真空泵10。真空泵包括涡轮分子泵送机构14，涡轮分子泵送机构14具有七个阵列的转子叶片16，这些转子叶片16与定子叶片（未示出）一起构成该机构的七个连续的级。在轴上泵中可以具有其它的泵送机构，例如分子阻力级或再生泵送级。可以根据需要设置数量多于七个或少于七个的级。

涡轮分子泵送机构一般用于产生具有在大约10^-3至10^-8 mbar（毫巴）之间的压力的高真空或超高真空。为了产生这种高真空，通过驱动轴15使转子叶片在高转速、例如在大约每分钟20,000至90,000转之间的转速下旋转。驱动轴15在其下端部由润滑的轴承18、20支撑并且在其上端部由磁性轴承（未示出）支撑以便旋转。除了磁性轴承以外的轴承可以替代上端部的轴承。

马达（未示出）使驱动轴15旋转。包括逆变器和可变功率控制器的马达驱动器22提供了用于驱动马达的必要的电信号。驱动器22可以位于泵外壳24的附近或与泵外壳24接触，或者，驱动器22可以远离马达设置并且通过线缆26连接至马达，如虚线所示。

润滑回路或润滑源设置成向真空泵的相对运动的表面（在所示的示例中，该相对运动的表面至少包括轴承20）供给润滑剂，以向轴承的相对运动的内圈和外圈之间供给润滑剂，从而使得滚子轴承构件的旋转摩擦减小。下面参照图2更详细地描述了润滑回路。润滑剂的供给取决于真空泵的方位，在图1和图2中，真空泵示出为处于竖直的方位。关于这一点，润滑剂回路布置成使得仅仅在真空泵的竖直方位中重力才导致润滑剂沿着回路的指向下的部分流动。