[发明专利]真空泵

权利要求书

1.一种真空泵，包括涡轮分子泵送机构和用于感测所述真空泵的方位的方位传感器；

其中，所述真空泵构造成用于在至少一个可允许的方位下运行，并且，使所述真空泵在除所述至少一个可允许的方位以外的方位下运行至少会使所述涡轮分子泵送机构的性能劣化；

其中，所述方位传感器设置成输出指示所述真空泵的方位的信号，用于编译使所述真空泵的运行与在运行期间感测到的所述真空泵的方位相关联的数据；

所述真空泵还包括油润滑回路，所述油润滑回路用于向所述真空泵的相对运动的表面供给油润滑剂，其中油润滑剂的供给取决于所述方位传感器所感测的所述真空泵的方位。

2.根据权利要求1所述的真空泵，包括泵外壳，并且其中，所述方位传感器相对于所述泵外壳固定。

3.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，所述方位传感器是倾斜传感器。

4.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，所述方位传感器是加速度计。

5.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，所述涡轮分子泵送机构的工作特性取决于所述真空泵的方位。

6.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，所述至少一个可允许的方位包括竖直方位，并且，使所述真空泵在倒置方位下运行至少会使所述涡轮分子泵送机构的性能劣化。

7.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，使所述真空泵在除所述至少一个可允许的方位以外的方位下运行导致所述涡轮分子泵送机构的失效。

8.根据权利要求1或2所述的真空泵，其中，所述方位传感器设置成输出指示所述真空泵的方位的信号，以被输入至控制单元，所述控制单元根据感测到的方位控制所述真空泵的运行。

9.根据权利要求1所述的真空泵，其中，所述油润滑回路布置成使得仅仅在所述真空泵的所述至少一个可允许的方位下才由重力导致油润滑剂沿着所述油润滑回路的至少一部分流动。

10.根据权利要求1或2所述的真空泵，包括：由驱动轴支撑以便旋转的转子；控制所述转子在所述驱动轴的旋转期间的运动的第一轴承组件；与所述转子或所述驱动轴间隔开的支承轴承组件，其中所述方位传感器构造成感测所述转子或所述驱动轴何时由所述支承轴承组件接触。

11.根据权利要求10所述的真空泵，其中，所述驱动轴的运动大体在相对于所述驱动轴的轴线的径向方向上。

12.根据权利要求10所述的真空泵，其中，所述支承轴承组件设置成通过与所述转子或所述驱动轴的接触而限制所述运动，并且所述方位传感器设置成感测所述支承轴承组件与所述转子或所述驱动轴之间的每一次接触事件。

13.根据权利要求10所述的真空泵，其中，所述第一轴承组件是在不接触所述转子或所述驱动轴的情况下控制所述运动的非接触式轴承组件。

14.根据权利要求13所述的真空泵，其中，所述第一轴承组件是磁轴承组件。

15.根据权利要求10所述的真空泵，其中，所述第一轴承组件与所述转子或所述驱动轴间隔开比所述支承轴承组件与所述转子或所述驱动轴间隔开的距离大的距离。

16.根据权利要求10所述的真空泵，其中，所述方位传感器设置成感测施加至所述转子或所述驱动轴的力，所述力足以使所述支承轴承限制由所述力引起的所述运动。

17.根据权利要求16所述的真空泵，其中，所述方位传感器是加速度计。