[发明专利]用于确定反射镜元件的取向的监视系统和EUV光刻系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于确定反射镜元件的取向的监视系统以及一种具有这种监视系统的EUV光刻系统。

背景技术

EUV光刻系统可用于通过借助EUV辐射将要成像的结构(还称为掩模或掩模母版)成像到辐射敏感结构(还称为光刻胶)上来产生微型化部件。EUV辐射是紫外辐射，尤其具有位于极紫外(EUV)区域中的波长，比如具有位于从5nm至30nm的范围内的波长。

从EP1202101A2中已知的EUV光刻系统包括成像光学单元、EUV辐射源和第一反射镜系统，成像光学单元构造成将物平面成像到像平面，要成像的结构可布置在物平面中，辐射敏感结构可布置在像平面中，第一反射镜系统布置在EUV辐射源和物平面之间的EUV光路中，并包括基底和固定到基底的多个反射镜元件，反射镜元件关于基底的取向可以分别被设定为能够不同地设定入射在要成像的结构上的EUV辐射的角分布。

问题包括相对于反射镜系统的基底或相对于其中集成了反射镜系统的光学系统的另一部件或相对于这种光学系统的光轴或场平面或光瞳平面设定反射镜系统的多个反射镜元件，使得实现对角分布的期望设定，并且在EUV光刻系统操作期间维持该角分布。

发明内容

本发明在考虑上述问题的情况下完成。

本发明的实施例提供了一种光学系统，其包括反射镜元件的系统和监视系统，可以设定反射镜元件的取向，监视系统用于确定反射镜元件的取向。

本发明的其它实施例提供了一种EUV光刻系统，其包括反射镜元件的系统和监视系统，可以设定反射镜元件的取向，监视系统用于确定反射镜元件的取向。

根据一些特定实施例，光学系统包括反射镜系统和监视系统，其中，反射镜系统具有多个反射镜元件，其中，反射镜元件的取向可分别独立于彼此设定，并且其中，监视系统被设置用于确定反射镜元件的取向，并包括下列部件：监视辐射源，其构造成以具有多个不同波长的光照明多个反射镜元件；监视透镜，具有物平面、像平面以及布置在物平面和像平面之间的光瞳平面；滤色器，其在不同位置处具有彼此不同的依赖于波长的透射属性；以及空间解析和波长解析光检测器，具有检测区，其中，反射镜元件布置在监视透镜的物平面区域中，其中，光检测器的检测区布置在监视透镜的像平面区域中，并且其中，滤色器布置在监视透镜的光瞳平面区域中。

具有多个反射镜元件的反射镜系统可被结合在另一光学系统中，在另一光学系统中，满足另一光学系统的功能所需的目的，其中，为了另一光学系统的目的，例如，可能需要反射镜元件相对彼此或相对另一参考物(比如反射镜元件所附接到的基底)的预定取向。继而，监视系统被构造成确定反射镜元件的取向，使得根据所确定的取向，可采取特定措施。

监视透镜使物平面成像至像平面，使得物平面和像平面是彼此光学共轭的平面。从物平面中给定点以不同角度发出的光束再一次从不同角度入射至像平面中的单个点。监视透镜的光瞳平面布置在物平面和像平面之间的光路中。在那里，所述光瞳平面具有从物平面中不同点以相同角度发出的光束在相同点处与光瞳平面相交的属性。

反射镜元件布置在监视透镜的物平面区域中，即反射镜元件的光学有效反射镜区要么正好布置在监视透镜的物平面中，要么布置成与监视透镜的物平面相距不远的距离，使得反射镜元件可以以可接受的成像质量成像在监视透镜的像平面中。监视透镜的物平面和像平面也可不是完全平面，而是弯曲平面(由于期望或不期望的场曲)。反射镜元件的表面不必正好布置在平面中，而是可布置在弯曲的二维区中。

由于监视透镜将反射镜元件光学成像至空间解析的检测器上，所以由监视辐射源发射并在特定反射镜元件处反射的光由于光学成像而会(如果其进入监视透镜)入射在空间解析检测器上与特定反射镜元件相关联的点，确切地说，独立于特定反射镜元件相对于基底的取向。

对于成像质量或者物区、图区和检测器布置的几何位置而言重要的条件是，在检测器上有核心区域用于每个光学有效反射镜区，仅来自该反射镜区的光照射在所述核心区域上，而来自另一反射镜区的光不会照射在所述核心区域上。然而，对于检测，检测器上的每个点不必仅由来自一个反射镜区的光照射。这使得可降低监视透镜的复杂性。