[发明专利]用于光学相干层析成像以及定位元件的系统和方法

权利要求书

1. 一种用于光学相干层析成像的系统，带有

-干涉仪(10)和传感器头(57)，通过所述传感器头(57)将电磁辐射从干涉仪(10)发送到待检查的对象(1)处并且可将由所述对象(1)反射的电磁辐射引回到所述干涉仪(10)中，

-定位元件(3)，其用于相对于所述待检查的对象(1)定位所述传感器头(57)，定位元件(3)带有：支承，其布置在所述对象(1)处，并且所述传感器头(57)可放置在所述支承上；和第一区域(4)，其对于由所述干涉仪(10)发送的和由所述对象(1)反射的辐射基本上是可穿透的；和第二区域(5)，其对于由所述干涉仪(10)发送的和/或由所述对象(1)反射的辐射的穿透性不同于所述第一区域(4)的穿透性，

-图像生成装置(51)，其用于借助由所述对象(1)和/或所述定位元件(3)，尤其由所述定位元件(3)的第二区域(5)反射的电磁辐射生成一幅或多幅图像(60,61)，

-显示装置(52)，其用于复现生成的图像(60,61)，以及

-控制装置(51)，其用于以这种方式控制图像(60,61)的生成和复现，即，所述传感器头(57)可借助生成的和复现的图像(60,61)带到在所述定位元件(3)上的期望的位置中。

2. 根据权利要求1所述的系统，其中，用于由所述干涉仪(10)发送的和/或由所述对象(1)反射的辐射的所述第二区域(5)基本上是不可穿透的。

3. 根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述第二区域(5)具有这样的结构，其光学特性不同于对象(1)的尤其典型的结构的光学特性。

4. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承可弯曲地来设计并且尤其可匹配所述对象(1)的轮廓。

5. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承可与所述对象(1)接触，尤其可松开地固定在所述对象(1)处。

6. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承的第一区域(4)构造为在所述支承中的穿口。

7. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承的第一区域(4)的形状和/或大小匹配于所述传感器头(57)的穿透区域(57d)的形状或大小，由所述干涉仪(10)发送的和由所述对象(1)反射的辐射可穿过穿透区域(57d)。

8. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，在所述定位元件(3)处设置有一个或多个标记(6,6',7)，其支持所述传感器头(57)相对于所述定位元件(3)，尤其相对于所述支承的第一区域和/或第二区域(4或5)的定位。

9. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承的第二区域(5)具有用于由所述干涉仪(10)发送的或由所述对象(1)反射的、小于10^-4尤其小于10^-6的辐射的穿透性。

10. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承的第二区域(5)具有反射层，所述反射层反射由所述干涉仪(10)发送的辐射。

11. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述支承的第二区域(5)尤其所述反射层具有用于由所述干涉仪发送的辐射的至少30%尤其至少50%的反射能力。

12. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述系统如此构造，即，来自所述对象(1)的不同的深度的图像(60,61)借助反射到所述对象(1)的不同的深度中的辐射生成和复现，其中，在由所述对象(1)的不同的深度获得的和复现的图像(60,61)中可识别出在对象(1)与定位元件(3)之间尤其在所述定位元件(3)的第一区域和第二区域(4和5)之间的过渡。

13. 根据上述权利要求中任一项所述的系统，带有探测器(30)，探测器(30)用于探测由所述对象(1)和/或所述定位元件(3)反射的且引回到所述干涉仪(10)中的辐射，其中，用于操控所述探测器(30)的控制装置如此构造，即，其在探测由所述定位元件(3)反射的且引回到所述干涉仪(10)中的辐射时处于饱和运行中。