[发明专利]等离子体处理装置以及方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，将被处理物收容在处理室内，通过导入到成为真空的处理室内的过程气体来产生等离子体，通过该等离子体对被处理物进行处理，

上述等离子体处理装置中具备：

导入口，将过程气体向处理室内导入；

电源，输出等离子体产生用的高频电压；以及

电极组，上述电极组具备：将以规定的间隔相互平行地排列的多个棒状的电极与被处理物对置且分离配置的第一电极部、和夹着上述第一电极部而对置于被处理物并且与上述第一电极部分离配置的第二电极部，通过来自上述电源的高频电压使过程气体激发而产生等离子体。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，

上述第二电极部的多个棒状的电极以规定的间隔相互平行地排列，

上述第一电极部以及第二电极部的各电极平行地配置于被处理物的表面。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，

上述导入口夹着上述电极组设置在被处理物的相反侧，经由上述电极组朝向被处理物释放过程气体。

4.如权利要求2所述的等离子体处理装置，

具备夹着被处理物设置在与上述导入口对置的位置而进行处理室内的排气的排气口，上述导入口朝向上述电极组并沿着上述第一电极部以及第二电极部中的电极的排列方向或电极的轴向释放过程气体。

5.如权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，

上述第一电极部以及第二电极部的各个不同极性的电极交替地排列。

6.如权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，

上述第一电极部排列有不同极性中的一个极性的电极，上述第二电极部排列有另一个极性的电极。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，

上述第二电极部是处理室的内壁面，

上述电极组将上述第一电极部的各电极和上述内壁面作为不同极性的各电极而被施加来自上述电源的高频电压，从而产生等离子体。

8.如权利要求7所述的等离子体处理装置，

上述第一电极部的各电极以及上述内壁面平行于被处理物的表面。

9.如权利要求7或8所述的等离子体处理装置，

具备进行处理室内的排气的排气口，

上述导入口朝向上述第一电极部并沿着上述第一电极部的电极的排列方向或电极的轴向释放过程气体，

上述排气口夹着上述第一电极部设置在与上述导入口对置的位置。

10.如权利要求1～9中任一项所述的等离子体处理装置，

上述电极组分别设置在夹着被处理物的位置。

11.如权利要求1～9中任一项所述的等离子体处理装置，

上述电极组仅设置在对置于被处理物的一面的位置。

12.如权利要求1～9中任一项所述的等离子体处理装置，

具备将一对被处理物的表面保持为以分别朝向外侧的姿态进行了重合的状态的保持部，

上述电极组对置于保持在上述保持部的一对上述被处理物的各表面而分别设置。

13.如权利要求1～11中任一项所述的等离子体处理装置，

具有以将上述被处理物的表面分别朝向上述电极组的姿态、对多个被处理物进行保持的保持部。

14.如权利要求1～13中任一项所述的等离子体处理装置，

具备设置在处理室内、限制从上述导入口释放的过程气体在上述电极组与处理室之间穿过而向排气口侧流动的流路控制部件。

15.一种等离子体处理方法，将被处理物收容在处理室内，通过在成为真空的处理室内产生的等离子体来对被处理物进行处理，

上述等离子体处理方法具备如下步骤：

导入步骤，将过程气体导入处理室内；

产生步骤，通过电极组使过程气体激发而产生等离子体，上述电极组具有将以规定的间隔相互平行地排列的多个棒状的电极与被处理物对置并分离配置的第一电极部、和夹着上述第一电极部而对置于被处理物并与上述第一电极部分离配置的第二电极部；以及

处理步骤，通过该产生的等离子体对被处理物进行处理。