[发明专利]紫外光产生用靶、电子束激发紫外光源、以及紫外光产生用靶的制造方法有效
申请号: | 201380055584.6 | 申请日: | 2013-09-06 |
公开(公告)号: | CN104755584B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 本多庆范;武富浩幸;福世文嗣;河合浩司;高冈秀嗣;铃木孝 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | C09K11/00 | 分类号: | C09K11/00;C09K11/08;C09K11/80;H01J63/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 杨琦,黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外光 产生 电子束 激发 紫外 光源 以及 制造 方法 | ||
1.一种紫外光产生用靶,其特征在于:
具备:
透射紫外光的基板;和
设置在所述基板上、接受电子束而产生紫外光的发光层,
所述发光层包含含稀土类的铝石榴石晶体,该发光层的紫外发光峰值波长为300nm以下,所述含稀土类的铝石榴石晶体为粉末状或粒状、且添加有活化剂。
2.如权利要求1所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述含稀土类的铝石榴石晶体的表面被通过热处理而熔融且再固化后的结晶熔融层覆盖。
3.如权利要求2所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
通过所述结晶熔融层,所述含稀土类的铝石榴石晶体彼此、以及所述含稀土类的铝石榴石晶体与所述基板相互熔接。
4.如权利要求1~3中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述活化剂为稀土类元素。
5.如权利要求1~3中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述含稀土类的铝石榴石晶体为LuAG,所述活化剂为Sc、La和Bi中的至少一种。
6.如权利要求1~3中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述含稀土类的铝石榴石晶体为YAG,所述活化剂为Sc和La中的至少一种。
7.如权利要求1~6中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述发光层的厚度为0.5μm以上且30μm以下。
8.如权利要求1~7中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述含稀土类的铝石榴石晶体的中位径为0.5μm以上且30μm以下。
9.如权利要求1~8中任一项所述的紫外光产生用靶,其特征在于:
所述基板由蓝宝石、石英或水晶构成。
10.一种电子束激发紫外光源,其特征在于:
具备:
权利要求1~9中任一项所述的紫外光产生用靶;和
对所述紫外光产生用靶施加电子束的电子源。
11.一种紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于:
使含稀土类的铝石榴石晶体沉积在透射紫外光的基板上,对所述含稀土类的铝石榴石晶体进行热处理,由此将所述含稀土类的铝石榴石晶体的表面熔融,并再固化而形成结晶熔融层,所述含稀土类的铝石榴石晶体为粉末状或粒状、并添加有活化剂且紫外发光峰值波长为300nm以下。
12.如权利要求11所述的紫外光产生用靶的制造方法,其特征在于:
所述热处理的温度为1400℃以上且2000℃以下。
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