[发明专利]基板回收装置在审
| 申请号: | 201380053910.X | 申请日: | 2013-10-04 |
| 公开(公告)号: | CN104781646A | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
| 发明(设计)人: | 森本伸彦 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N33/48;G02B21/32;G02B21/36 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 回收 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种基板回收装置。
背景技术
以往,公知有一种将粘贴有生物体组织的切片的玻璃基板以粘接于片的状态与切片一起进行分割、并将分割后的基板的一部分与切片的断片一起进行回收的装置(例如,参照专利文献1。)。根据专利文献1,通过在使基板朝向下方的状态下隔着片按压基板的背面,使基板自片剥离及落下,从而能够选择性地回收期望的基板。作为实现这样的基板的回收方法的装置,在专利文献1的图9中提出了一种利用倒置型的显微镜的结构。通过使用倒置型的显微镜,能够从正面方向详细地观察设置于载物台的基板和切片。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2011/149009号
发明内容
发明要解决的问题
但是,根据专利文献1,使载置了粘接有基板的片的显微镜的载物台从显微镜的观察位置向显微镜的外侧移动较大的距离,之后,进行基板相对于用于按压基板的提取部件的细微的位置对准。即,载物台要求有较大的可动范围和较高的定位精度这两个功能,载物台的移动机构变复杂。
本发明是鉴于上述情况而做成的,其目的在于提供一种能够采用倒置型的光学设计并且能够将载物台的移动机构设为简单的结构的基板回收装置。
用于解决问题的方案
为了达到上述目的,本发明提供以下技术方案。
本发明提供一种基板回收装置,其通过进行预定的操作而将以能够剥离的方式粘接于片构件的多个基板中的一部分基板从所述片构件剥离并回收,其中,该基板回收装置包括:载物台,其使所述多个基板朝向下方地载置有所述片构件,并能够沿水平方向移动;提取部,其通过在该载物台的上方针对该载物台上的所述基板进行所述预定的操作而使所述基板自所述片构件剥离并落下;观察部,其用于从所述载物台的下方观察该载物台上的所述基板;回收部,其用于在所述载物台的下方回收自该载物台落下的所述基板;以及移动机构,其用于使所述观察部和所述回收部一体地沿水平方向移动;所述提取部针对相对于该提取部配置在预定的相对位置的所述一部分基板进行所述预定的操作,所述移动机构能够将所述观察部和所述回收部定位在所述观察部配置于所述预定的相对位置的大致铅垂下方的第1位置和所述回收部配置于所述预定的相对位置的大致铅垂下方的第2位置。
根据本发明,通过将粘接有基板的片构件载置在载物台上,一边利用观察部观察基板一边调整载物台的位置以将期望的基板相对于提取部配置在预定的相对位置,利用提取部使配置在预定的相对位置的基板剥离及落下,从而能够将期望的基板回收到回收部。在此,采用利用观察部从载物台的下方观察载物台上的基板的倒置型的光学设计,并且利用移动机构在第1位置与第2位置之间切换观察部和回收部的位置,从而能够在载物台的大致铅垂下方择一配置观察部和回收部。
在该情况下,载物台的可动范围在基板相对于提取部的定位所需的充分窄的范围即可,因此载物台的移动机构只要具有微动的功能就足够了,能够使移动机构变简单。另一方面,关于与载物台相比针对提取部的定位精度要求并不严格的观察部和回收部,能够利用移动机构的定位达到充分的定位精度。
在上述发明中,也可以是,所述观察部包括:反射构件,其用于在所述第1位置将所述载物台上的所述基板的像向与铅垂方向交叉的方向反射;以及摄影构件,其用于拍摄由该反射构件反射的所述像。
通过如此设置,摄影构件只要在任意的位置拍摄从反射构件传递来的基板的像即可,因此能够提高摄影构件的配置及光学设计的自由度。另外,通过将与摄影构件相比小型且轻量的反射构件设置在移动机构上,能够使移动机构的结构更简单。
在上述发明中,也可以是,所述基板以通过被自所述片构件侧顶出而能够剥离的方式粘接于所述片构件,所述提取部包括:抵接构件,其具有隔着所述片构件抵接于所述一部分基板的抵接端;以及移动机构,其用于使该抵接构件沿大致铅垂方向移动。
通过如此设置,利用移动机构使抵接构件朝向基板移动并利用抵接端隔着片构件顶出基板的简单的操作,就能够使配置于抵接端的大致铅垂下方的一部分基板选择性地自片构件剥离及落下。
在上述发明中,也可以是,所述基板利用粘接力因紫外线的照射而降低的粘接剂粘接于所述片构件,所述提取部具有向所述预定的相对位置照射紫外线的射出面。
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