[发明专利]处理装置以及器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及处理装置以及器件制造方法。

本申请主张于2012年8月6日申请的日本特愿2012-173982号的优先权，并在此引用其内容。

背景技术

近几年，作为电视机等显示装置，例如多使用液晶显示面板等平板显示器。平板显示器那样的各种器件例如通过利用曝光处理以及蚀刻技术在玻璃板等基板上形成透明薄膜电极等各种膜图案来制造。

上述的曝光处理例如通过将与在形成有曝光图案的掩模图案上设定的照明区域对应的像转印在设于基板上的投影区域来进行。作为进行这样的曝光处理的曝光装置，例如提出了一边使圆筒面状的掩模图案旋转一边进行曝光的曝光装置(参照下述的专利文献1)。

并且，作为器件制造方法，提出了如下辊到辊(roll to roll)方式的制造方法，即，一边从送出用的辊向回收用的辊搬运薄膜等基板，一边在搬运路径上对基板进行曝光处理等各种处理(参照下述的专利文献2)。

专利文献1：PCT国际公开第2008/029917号

专利文献2：PCT国际公开第2008/129819号

发明概要

发明要解决的技术问题

然而，曝光处理会在投影区域不与照明区域平行的状态下进行。例如，在使用圆筒面状地弯曲的掩模图案的曝光装置中，因掩模图案上的照明区域的位置，投影区域不与照明区域平行。

并且，在辊到辊方式中，例如当对在辊上弯曲的基板进行曝光的情况下，因基板上的投影区域的位置，投影区域不与照明区域平行。这样，若投影区域和照明区域是相互不平行的关系，则曝光的精度会降低。

发明内容

本发明的目的在于提供即使投影区域和照明区域是相互不平行的关系也能够精度良好地曝光的处理装置、器件制造方法。

根据本发明的第1方案，提供一种处理装置，其是将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板的处理装置，其中，具备：掩模保持部件，其将上述掩模图案保持为弯曲的状态；基板支承部件，其支承上述基板；照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明；中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像，并且使上述中间像的切面和上述掩模图案上的照明区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系；以及投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像。

根据本发明的第2方案，提供一种处理装置，其是将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板的处理装置，其中，具备：掩模保持部件，其保持上述掩模图案；基板支承部件，其将上述基板支承为弯曲的状态；照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明；中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像；以及投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像，并且使上述中间像的切面和上述投影区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系。

根据本发明的第3方案，提供一种器件制造方法，其包括：一边使具有感应层的基板和掩模图案移动、一边利用第1方案或者第2方案的处理装置来将形成于上述掩模图案的图案投影曝光于上述基板的步骤；和利用上述投影曝光后的上述基板的上述感应层的变化来实施后续的处理的步骤。

根据本发明的方案，可提供即使投影区域和照明区域是相互不平行的关系也能够精度良好地进行曝光的处理装置、器件制造方法。

附图说明

图1是表示器件制造系统的一个例子的图。

图2是表示第1实施方式的曝光装置的图。

图3是表示两侧远心的光学系统中向甫鲁条件的图。

图4是表示中间像形成光学系统的结构的一个例子的图。

图5是表示中间像形成光学系统的各个部分的一个例子的表1。

图6是表示第2实施方式的处理装置(曝光装置)的立体图。

图7是表示从与图6不同的方向观察的曝光装置的立体图。

图8是表示场镜的一个例子的分解立体图。

图9是表示光阑部的一个例子的俯视图。

图10是简要地表示第3实施方式的曝光装置的图。

图11A是表示照明系统的结构的一个例子的图。

图11B是表示照明系统的结构的一个例子的图。

图12是表示照明系统的各个部分的一个例子的表2。

图13是简要地表示第4实施方式的曝光装置的图。

图14是表示投影区域的配置例的俯视图。