[发明专利]研磨材料再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨材料再生方法。

背景技术

作为在玻璃光学元件，玻璃基板，半导体设备的制造工序中进行精密研磨的研磨材料，目前使用以氧化铈为主成分，并向其中加入了氧化镧，氧化钕，氧化镨等而得到的稀土元素氧化物。作为其他的研磨材料，可以列举金刚石、氧化铁、氧化铝、氧化锆、胶体二氧化硅等。

通常，在研磨材料的主要构成元素中，包含由日本国内不出产的矿物得到的材料，一部分依赖进口资源，且大多材料价格昂贵。因此，对于含有使用过的研磨材料的研磨材料废液，在技术上对资源的再利用化的对应成为重要问题。

通常，作为在各种产业领域中产生的含有悬浮微粒的废水的处理方法，目前是使用中和剂或无机凝聚剂、高分子凝聚剂等将悬浮微粒凝聚分离，然后处理水排放，凝聚分离得到的污泥通过焚烧等方法进行废弃处理。

另外，含使用过的研磨材料的废液中混入了在研磨工序中大量产生的被研磨成分，例如光学玻璃屑等。通常难以将该废液中所含的研磨材料成分和被研磨成分有效地分离，因此，现状是，研磨材料废液大多情况下在使用过后被废弃，在废弃成本方面存在问题。

因此，近年来，有效地回收及再利用研磨材料的主要构成元素来实现作为稀有且价值高的元素的资源节约化成为重要的问题。

关于研磨材料成分的回收方法，已经公开了回收胶体二氧化硅类的研磨材料的方法，即在镁离子的存在下，向研磨材料废液添加碱将pH值调整到10以上，由此进行凝聚处理来回收研磨材料的方法(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-254659号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

但是，包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中有时会混入与研磨材料成分不同的金属元素粒子这样的杂质。

专利文献1的方法能够将来自被研磨物的成分与研磨材料分离，回收研磨材料，但是无法去除混入的杂质即金属元素粒子。

作为去除杂质粒子的方法，可以考虑使用具备筛孔等的陶瓷过滤器等进行去除。但是，用陶瓷过滤器等去除杂质粒子的方法中，当混入的金属元素的粒子比研磨材料粒子的粒径大时，能够通过陶瓷过滤器等的过滤器进行去除，但是当混入的金属元素的粒子与研磨材料粒子的粒径相同或者比其小时，无法有效地去除，会导致再生研磨材料的纯度降低。

本发明要解决的技术问题在于，提供一种研磨材料再生方法，其可以从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中得到高纯度的再生研磨材料。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的所述技术问题可通过下述方案来解决：

1、一种研磨材料再生方法，其从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中再生研磨材料，该研磨材料是选自下述研磨材料组中的至少一种，并且该研磨材料再生方法经由下述工序A～D再生研磨材料，而且工序D在工序A～C中任意一项工序之后进行或者与工序B或工序C同时进行，

工序A：回收包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料的浆料回收工序A；

工序B：向该回收得到的研磨材料浆料中添加作为无机盐的含有碱土金属元素的金属盐，使研磨材料凝聚，从母液中分离出该研磨材料并进行浓缩的分离浓缩工序B；

工序C：将该分离并浓缩后的研磨材料进行固液分离并进行回收的研磨材料回收工序C；

工序D：用磁性过滤器过滤去除混入研磨材料浆料的金属元素粒子的过滤工序D，

研磨材料组：氧化铈、金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝-氧化锆、氧化锆。

2、如第一项所述的研磨材料再生方法，其中，所述磁性过滤器由永久磁铁材料或者电磁铁材料构成。

3、如第一项或第二项所述的研磨材料再生方法，其还包括工序E：对回收得到的所述研磨材料的粒径进行调整的粒径控制工序E，

所述过滤工序D在所述粒径控制工序E即将开始前进行。

4、如第三项所述的研磨材料再生方法，其中，在所述研磨材料回收工序C之后，所述粒径控制工序E之前，还包括工序F：对上述回收得到的研磨材料实施过滤处理并进行二次浓缩的第二浓缩工序F。

5、如第一项至第四项中任意一项所述的研磨材料再生方法，其中，所述分离浓缩工序B中使用的含有碱土金属元素的金属盐为镁盐。

6、如第一项至第五项中任意一项所述的研磨材料再生方法，其中，所述研磨材料回收工序C中，研磨材料的回收方法是采用自然沉降进行的倾析分离法。

发明效果