[发明专利]提供用于可控加热的电弧放电的局部真空操作的系统和方法

权利要求书

1.一种光纤处理系统，包括：

至少两个电极；

至少一个光纤夹具，被配置成夹持光纤；

气密外壳，提供部分真空，在其内设置所述至少两个电极，从而使得所述光纤的一部分保持在所述气密外壳内的所述至少两个电极之间的间隙中；

电弧放电单元，被配置成选择性地控制被提供给所述至少两个电极的足够的驱动电流，从而在所述间隙中的电弧放电区域中产生电弧放电，足以在所选气压下使所述电弧放电区域内的气体电离至饱和；以及

控制单元，被耦合至所述电弧放电单元、真空产生文丘里管和压力传感器，以控制所述系统的操作，从而在电弧放电区域的电离饱和时通过控制所述外壳内的气压建立所述电弧放电区域的温度上限；其中，所述压力传感器被配置成感应所述气密外壳内的压力，所述真空产生文丘里管被所述控制单元控制以在所述气密外壳内产生所述部分真空。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少两个电极是三个电极。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少两个电极是多于三个电极。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个光纤夹具是至少一个多轴定位器。

5.一种处理光纤的方法，包括：

提供至少两个电极、被配置成夹持光纤的至少两个光纤夹具、提供部分真空的气密外壳，在所述气密外壳内设置所述至少两个电极，使得所述光纤的一部分保持在所述气密外壳内的所述至少两个电极之间的间隙中；以及

使用电弧放电单元，选择性地控制被提供给所述至少两个电极的驱动电流，从而在所述间隙中的放电区域中产生电弧放电，包括电离所述放电区域内的气体，以在所选气压下使所述电弧放电达到饱和；以及

通过控制所述气密外壳内的气压，来控制所述放电区域的温度上限。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述至少两个电极是三个电极。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，所述至少两个电极是多于三个电极。

8.根据权利要求5所述的方法，进一步包括：

感应所述气密外壳内的压力。

9.根据权利要求5所述的方法，进一步包括：

利用真空产生文丘里管在所述气密外壳内产生部分真空。

10.一种工件处理系统，包括：

至少两个电极；

工件夹具，被配置成夹持工件；

气密外壳，被配置为保持部分真空内的气体，在其内设置所述至少两个电极，使得所述工件的一部分保持在所述气密外壳内的所述至少两个电极之间的间隙中；

电弧放电单元，被配置成选择性地控制被提供给所述至少两个电极的驱动电流，从而在所述间隙中的电弧放电区域中产生电弧放电，足以在所选气压下使所述电弧放电区域内的气体电离至饱和；

压力传感器，被配置成感应所述气密外壳内的压力；以及

真空产生文丘里管，被配置成在所述气密外壳内产生所述部分真空，以及

控制单元，被耦合至所述电弧放电单元、真空产生文丘里管和压力传感器，以控制所述系统的操作，从而在电弧放电区域的电离饱和时通过控制所述外壳内的气压建立所述电弧放电区域的温度上限。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述至少两个电极是三个电极。

12.根据权利要求10所述的系统，其中，所述至少两个电极是多于三个电极。

13.根据权利要求10所述的系统，其中，所述工件夹具是多轴定位器。

14.根据权利要求10所述的系统，其中，所述工件是至少一条光纤。