[发明专利]使用系统性缺陷过滤器的光罩缺陷检验

权利要求书

1.一种检验光学光刻光罩的方法，所述方法包括：

从光罩检验系统接收缺陷数据流，其中所述缺陷数据识别针对所述光罩的多个不同部分所检测的多个缺陷；

在检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验之前且在继续接收所述缺陷数据流时，将所述缺陷中的一些缺陷与其它最近一或多个所接收缺陷自动分组在一起以便形成匹配缺陷的群组；及

在检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验之前且在接收到所述光罩的所有所述缺陷数据之后，从所述缺陷数据自动过滤所述缺陷群组中的具有高于预定阈值的数目的一或多个缺陷群组以便形成经过滤缺陷数据，其中所述预定阈值具有经调整值，所述经调整值取决于环绕此特定群组的缺陷的区的均匀性水平；及

将所述经过滤缺陷数据提供到检视站以确定所述光罩是否合格。

2.根据权利要求1所述的方法，其中人工地执行检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验。

3.根据权利要求1所述的方法，其中一次一个缺陷图像地接收所述缺陷数据且通过以下操作实现自动分组：

当接收到每一缺陷图像时，如果存在现有种子群组，那么确定此缺陷图像是否匹配所述现有种子群组且将此缺陷图像添加到此匹配的现有种子群组，否则，形成包括此缺陷图像的新种子群组。

4.根据权利要求3所述的方法，其中如果存在现有种子群组，那么确定每一缺陷图像是否匹配所述现有种子群组且将此缺陷图像添加到此匹配的现有种子群组是通过以下操作实现的：一次一个地将此缺陷图像与多个种子群组进行比较直到在存在匹配的情况下找出所述匹配。

5.根据权利要求3所述的方法，其中一次一个地将此缺陷图像与多个种子群组进行比较直到在存在匹配的情况下找出所述匹配是通过以下操作实现的：首先确定此缺陷图像是否具有与所述种子群组中的一者匹配的形状，且仅在存在匹配形状的情况下，逐像素地将此缺陷图像与具有所述匹配形状的所述种子群组进行比较。

6.根据权利要求5所述的方法，其中当所述逐像素比较产生小于2×2像素差时，确定将此缺陷图像与所述种子群组中的特定一者分组在一起。

7.根据权利要求1所述的方法，其中以最后所接收缺陷数据到第一所接收缺陷数据的时间次序实现自动分组。

8.根据权利要求1所述的方法，其中在没有人为干预的情况下执行自动分组及过滤。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定阈值具有经调整值，所述经调整值经设定使得如果特定群组的缺陷由空白背景环绕，那么不过滤此特定群组。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述预定阈值具有经调整值，所述经调整值针对具有一维缺陷的第一群组比针对具有二维缺陷的第二群组高。

11.根据权利要求1所述的方法，其中特定群组的缺陷类型的所述预定阈值与1/log(A)成比例，其中A为独特背景图案的面积。

12.一种用于检验光学光刻光罩的检验系统，所述检验系统包括经配置以执行以下操作的至少一个存储器及至少一个处理器：

从光罩检验系统接收缺陷数据流，其中所述缺陷数据识别针对所述光罩的多个不同部分所检测的多个缺陷；

在检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验之前且在继续接收所述缺陷数据流时，将所述缺陷中的一些缺陷与其它最近一或多个所接收缺陷自动分组在一起以便形成匹配缺陷的群组；及

在检视所述缺陷数据以确定所述光罩是否通过检验之前且在接收到所述光罩的所有所述缺陷数据之后，从所述缺陷数据自动过滤所述缺陷群组中的具有高于预定阈值的数目的一或多个缺陷群组以便形成经过滤缺陷数据，其中所述预定阈值具有经调整值，所述经调整值取决于环绕此特定群组的缺陷的区的均匀性水平；及

将所述经过滤缺陷数据提供到检视站以确定所述光罩是否合格。