[发明专利]用于在磁记录介质的粘合膜层用CrTi系合金有效
| 申请号： | 201380020226.1 | 申请日： | 2013-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN104246884B | 公开（公告）日： | 2017-06-06 |
| 发明（设计）人： | 松原庆明;长谷川浩之;泽田俊之 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;C23C14/34;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 刘宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 记录 介质 使用 粘合 膜层用 crti 合金 获得 溅射 垂直 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于在磁记录介质中使用的粘合膜层用CrTi系合金，所述CrTi系合金具有按原子比计由(Cr,Mo,W)X(Ti,Ta,Zr)100-X，40≤X≤70表示的组成式，其中
所述合金中的选自Mo和W中的一种或两种元素的合计含量为10原子％至X/2原子％；并且
所述合金中的选自Ta和Zr中的一种或两种元素的合计含量为0原子％～20原子％。
2.根据权利要求1所述的CrTi系合金，其中所述合金中的选自Ta和Zr中的一种或两种元素的合计含量为大于0原子％但在20原子％以下。
3.根据权利要求1或2所述的CrTi系合金，其中所述合金具有按原子比计由(Cr,Mo,W)X(Ti,Ta,Zr)100-X，45≤X≤65表示的组成式。
4.根据权利要求1或2所述的CrTi系合金，其中所述合金中的选自Mo和W中的一种或两种元素的合计含量为15原子％至X/2原子％。
5.使用根据权利要求1至4中任一项所述的CrTi系合金的溅射靶材。
6.使用根据权利要求1至4中任一项所述的CrTi系合金的垂直磁记录介质。
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