[发明专利]碳质膜的制造方法及石墨膜的制造方法有效
申请号: | 201380015309.1 | 申请日: | 2013-09-19 |
公开(公告)号: | CN104169214A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 片山觉嗣;太田雄介;稻田敬;沓水真琴;西川泰司 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;C01B31/04;C04B35/52 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 质膜 制造 方法 石墨 | ||
技术领域
本发明涉及一种碳质膜及用碳质膜获得的石墨膜。
背景技术
关于用高分子煅烧法获得石墨膜的方法,目前已知有分批方式的生产(专利文献1)及连续生产方式的生产(专利文献2、专利文献3)。其中指出,相比于分批方式的生产,连续生产方式的生产的优点在于具有高生产效率(专利文献3)。
[现有技术文献]
专利文献1:日本国专利申请公报“特开平3-75211号”;1991年3月29日公开。
专利文献2:日本国专利申请公报“特开平4-149013号”;1992年5月22日公开。
专利文献3:日本国专利申请公报“特开2004-299937号”;2004年10月28日公开。
发明内容
[本发明所要解决的问题]
然而专利文献2、专利文献3记载的方法中,当如图1那样以连续生产方式对高分子膜进行热处理来生产碳质膜时,连续式碳化步骤后的膜11存在产生褶皱的问题。
本发明的目的在于解决所述问题,获得褶皱得到抑制的碳质膜。
[用以解决问题的技术方案]
即,本发明涉及一种碳质膜的制造方法,其特征在于:利用连续碳化装置,在550℃以上800℃以下的范围内的至少一部分温度下,一边搬送作为碳质膜原料的高分子膜和/或原料碳质膜,一边沿该高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向施加压力。
[发明的效果]
根据本发明,可以获得褶皱得到抑制的碳质膜。
附图说明
图1是利用以往的连续生产方式完成了热处理的碳质膜。
图2是本发明的连续碳化步骤的示意图。
图3是加热处理装置的示意图。
图4是加热空间的温度设定例。
图5是在连续碳化步骤时沿膜的厚度方向加压的方法的一例。
图6是在连续碳化步骤时沿膜的厚度方向加压的方法的一例。
图7是在连续碳化步骤时沿膜的厚度方向加压的方法的一例。
图8是在连续碳化步骤时沿膜的厚度方向加压的方法的一例。
图9是对施加在膜上的力进行说明的示意图。
图10是摩擦所致的张力的测定方法的示意图。
图11是在连续碳化步骤时沿膜的厚度方向加压的方法的一例。
图12表示实施例、比较例的石墨化步骤中的膜设置方法。
[附图标记说明]
11 连续碳化步骤后的膜
21 加热处理装置
22 搬送膜的装置
23 高分子膜和/或原料碳质膜
24 碳质膜
31 经物理空间划分后的加热空间
32 未经物理空间划分的加热空间
33 加热空间1
34 加热空间2
35 加热空间3
36 炉体
37 高分子膜和/或原料碳质膜、及/或碳质膜
41 不设冷却空间的方案
42 设有冷却空间的方案
43 冷却空间
51 炉床
52 重物
61 碳质膜的卷绕物
62 炉床
63 重力方向
具体实施方式
本发明涉及一种碳质膜的制造方法,其特征在于:利用连续碳化装置,于550℃以上800℃以下的范围内的至少一部分温度下,一边搬送作为碳质膜的原料的高分子膜和/或原料碳质膜,一边对该高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向施加压力。本发明还涉及一种石墨膜的制造方法,其对获得的碳质膜以2400℃以上的温度进行热处理来获得石墨膜。
图中的x轴、y轴、z轴规定了各图中的3维空间方向。在本说明书中,将膜的x轴方向上的长度也称为“长度”,将y轴方向上的长度也称为“宽度”,将z轴方向上的长度也称为“厚度”。另外,在本说明书中,将x轴方向也称为膜的“长度方向”,将y轴方向也称为膜的“宽度方向”,将z轴方向也称为膜的“厚度方向”。此外,x轴方向还是膜的搬送方向。
<连续碳化装置>
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