[发明专利]碳质膜的制造方法及石墨膜的制造方法有效
| 申请号： | 201380015309.1 | 申请日： | 2013-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104169214A | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 片山觉嗣;太田雄介;稻田敬;沓水真琴;西川泰司 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;C01B31/04;C04B35/52 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质膜 制造 方法 石墨 | ||
1.一种碳质膜的制造方法，其特征在于：
利用连续碳化装置，在550℃以上800℃以下的范围内的至少一部分温度下，一边搬送作为碳质膜的原料的高分子膜和/或原料碳质膜，一边沿该高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向施加压力。
2.根据权利要求1所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
沿所述高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向所施加的压力为0.1g/cm2以上。
3.根据权利要求1或2所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
所述高分子膜和/或原料碳质膜上施加有：
搬送所述高分子膜和/或原料碳质膜的力；
拉伸强度，其是与搬送所述高分子膜和/或原料碳质膜的力呈反向且对所述高分子膜和/或原料碳质膜赋予张力的力；
摩擦所致的张力，其是与搬送所述高分子膜和/或原料碳质膜的力呈反向且因所述高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向上的加压而引起的摩擦力；
并且，搬送所述高分子膜和/或原料碳质膜的力大于所述拉伸强度与所述摩擦所致的张力的合力。
4.根据权利要求3所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
所述拉伸强度为0kgf/cm2以上400kgf/cm2以下。
5.根据权利要求3或4所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
所述摩擦所致的张力为0.9kgf/cm2以上420kgf/cm2以下。
6.根据权利要求3～5中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
所述拉伸强度与所述摩擦所致的张力的合力为0.9kgf/cm2以上420kgf/cm2以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的碳质膜的制造方法，其特征在于：
沿所述高分子膜和/或原料碳质膜的厚度方向所施加的压力是由重物负荷所带来的加压。
8.一种石墨膜的制造方法，其特征在于：
对经权利要求1～7中任一项所述的制造方法而制得的碳质膜，以2400℃以上的温度进行热处理。
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