[发明专利]光信息处理装置和光信息处理方法有效

专利信息
申请号: 201380015274.1 申请日: 2013-02-21
公开(公告)号: CN104205219B 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 岸上智;竹下伸夫 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B7/126;G11B7/1392
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,龚晓娟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 信息处理 装置 方法 以及 调节 程序
【权利要求书】:

1.一种光信息处理装置,其特征在于,该光信息处理装置具有:

照射受光单元,其向光盘照射光,检测来自所述光盘的反射光而输出再现信号;

球面像差校正单元,其对照射到所述光盘的光的球面像差进行校正;

聚焦调节单元,其根据聚焦调节值对照射到所述光盘的光的聚焦位置进行调节;以及

调节单元,其分别针对以所述聚焦调节值和所述球面像差校正单元的球面像差校正量为坐标轴的平面上的至少3条直线,在该直线上的至少3点的测定位置处测定所述再现信号的信号特性,根据该测定结果,求出所述信号特性为同一水平的所述平面上的至少5个位置作为估计位置,并基于该至少5个估计位置调节所述球面像差校正量和所述聚焦调节值,

所述调节单元对所述至少5个估计位置进行椭圆近似,根据该椭圆近似的结果求出椭圆的中心位置,并基于该椭圆的中心位置决定所述球面像差校正量和所述聚焦调节值。

2.根据权利要求1所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述至少3条直线包含与所述聚焦调节值的坐标轴平行的聚焦轴直线、和与所述聚焦轴直线不同的至少两条剩余直线,

所述调节单元在所述聚焦轴直线上的至少3点的测定位置处测定出所述信号特性后,依次变更所述球面像差校正量,每当变更所述球面像差校正量时,在变更后的球面像差校正量下在各剩余直线上的测定位置处测定所述信号特性,由此分别针对所述至少3条直线,在该直线上的至少3点的测定位置处测定所述信号特性。

3.根据权利要求2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述各剩余直线被设定为通过所述聚焦轴直线上的所述至少3点的测定位置中的任意一个测定位置。

4.根据权利要求3所述的光信息处理装置,其特征在于,

针对所述聚焦轴直线,在用2次以上的多项式对所述测定位置与在所述测定位置处测定出的信号特性之间的关系进行了近似时,在将所述信号特性为极值的位置设为了极值位置的情况下,

所述各剩余直线被设定为通过所述聚焦轴直线上的所述至少3点的测定位置中的、所述极值位置附近的测定位置。

5.根据权利要求1或2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述调节单元针对各直线,在用2次以上的多项式对所述测定位置与在所述测定位置处测定出的信号特性之间的关系进行了近似时,在所述信号特性为极值的位置包含在所述测定位置的范围内为止,在以扩展所述测定位置的范围的方式变更所述测定位置的同时进行所述信号特性的测定。

6.根据权利要求1或2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述至少3条直线包含将所述平面中的所述信号特性的等高线视作椭圆的情况下的、与椭圆的长轴平行的、相对于所述球面像差校正量和所述聚焦调节值的坐标轴倾斜的直线。

7.根据权利要求1或2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述调节单元针对所述至少3条直线中的至少1条直线,在至少两点的测定位置处测定出所述信号特性后,对所述至少两点的测定位置中的、两端的测定位置处的所述信号特性进行比较,将自所述两端的测定位置中的所述信号特性良好的一方的测定位置、朝与朝向另一方的测定位置相反的方向离开而得到的位置决定为下一测定位置。

8.根据权利要求1或2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述调节单元针对各直线,根据用2次以上的多项式对所述测定位置与在所述测定位置处测定出的信号特性之间的关系进行近似而得到的近似结果,求出所述信号特性为估计用水平的所述平面上的位置,作为所述估计位置,并使用所得到的估计位置中的至少5个来进行所述椭圆近似。

9.根据权利要求1或2所述的光信息处理装置,其特征在于,

所述调节单元进行所述椭圆近似的结果是否示出椭圆的判断,

在所述判断中判断为未示出椭圆的情况下,所述调节单元变更所述信号特性的估计用水平来求出所述至少5个估计位置,在使用该至少5个估计位置进行了所述椭圆近似后,再次进行所述判断,

在所述判断中判断为示出椭圆的情况下,所述调节单元根据所述椭圆近似的结果求出所述椭圆的中心位置。

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