[发明专利]真空灭弧室装置及其制造方法

权利要求书

1.一种真空灭弧室，其在金属壳体部件与陶瓷壳体部件之间具有由绝缘材料覆盖的过渡区域，其特征在于，所述绝缘材料作为管件(4)在真空灭弧室(1，1′)或者真空装置的至少几乎整个长度上延伸，所述绝缘材料填充有金属和/或导电的金属氧化物或者具有有限导电性的材料或者在与真空灭弧室表面紧密接触的内表面上至少覆盖有所述金属和/或所述导电的金属氧化物或者所述具有有限导电性的材料。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室，其特征在于，在串联的多个真空灭弧室(1，1′)或者真空装置的结构的情况下，由一共用管件(4)施加一共用覆盖层。

3.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室，其特征在于，真空灭弧室的陶瓷部件被分成串联布置的至少两个陶瓷段，这些段之间具有在外部延伸的中间屏蔽(3，3′，3″)接触件，这些段还由之前所述的共用管件覆盖。

4.根据权利要求1，2或3所述的真空灭弧室，其特征在于，真空灭弧室的陶瓷部件被分成串联布置的至少两个陶瓷段，在这些段之间具有在外部延伸的中间屏蔽(3，3′，3″)接触件，这些段还由多层式布置的一些管件覆盖。

5.根据权利要求1，2或3所述的真空灭弧室，其特征在于，真空灭弧室的陶瓷部件被分成串联布置的至少两个陶瓷段，在这些段之间具有在外部延伸的中间屏蔽(3，3′，3″)接触件，多层式结构的单个管件能够(类似于浮动地一样)电连接到真空灭弧室或真空装置，该设计的部分层或者所有层连接到所述真空装置。

6.根据前述权利要求1-5中任一项所述的真空灭弧室，其特征在于，所述管件(4)是热收缩管件。

7.根据前述权利要求1-5中任一项所述的真空灭弧室，其特征在于，所述管件(4)是冷收缩管件。

8.根据前述权利要求1-7中任一项所述的真空灭弧室，其特征在于，具有之前所述的共用管件的真空灭弧室或者串联的多个真空灭弧室或真空装置最后嵌入在环氧树脂中或者热塑性壳体中。

9.根据前述权利要求1-7中任一项所述的真空灭弧室，其特征在于，具有之前所述的共用管件(4)的真空灭弧室(1，1’)或者串联的多个真空灭弧室或真空装置最后组装在由绝缘材料制成的壳体中。

10.一种制造真空灭弧室或者真空装置或者串联布置的多个真空灭弧室的方法，其特征在于，将绝缘材料完全填充金属和/或导电的金属氧化物或者在与真空灭弧室或真空装置表面紧贴接触的内表面上覆盖所述金属和/或导电的金属氧化物，该绝缘材料成型为由冷收缩或热收缩绝缘材料制成的管件，所述管件布置在真空灭弧室或真空装置的至少几乎整个长度上。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，将如此覆盖的真空灭弧室或真空装置或者串联布置的多个真空灭弧室或真空装置放置到模具中，通过环氧树脂或者热塑性注塑工艺来获得绝缘壳体。