[实用新型]用于曝光机的对位晒架

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光机领域，具体而言，涉及用于曝光机的对位晒架。 

背景技术

印制电路板（PCB板）制造工艺中，最关键的工序之一就是将底片图像转移到基材上。先在基板上涂覆一层感光材料（如液态感光胶、光敏抗蚀干膜等），然后对涂覆在基材上的感光材料进行光辐射，使其溶解性发生变化。未感光部分的树脂没有聚合，在显影液作用下溶解，感光部分的感光材料发生聚合反应固化在基材上形成图像，这一工艺过程即是曝光，也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。 

现有的曝光机包括两个晒架，即在曝光过程中，先将一张底片与PCB板对位进行曝光，然后将单面曝光后的PCB板翻转后再与另一张底片对位曝光。PCB板与两张底片分别进行对位，而且还需要对PCB板翻转，生产效益低。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供用于曝光机的对位晒架，以解决上述的问题。 

在本实用新型的实施例中提供了一种用于曝光机的对位晒架，包括底座、底片移动板、上盖和PCB移动板；PCB移动板、底片移动板及上盖从下至上依次设置在底座上；底片移动板上安装有下玻 璃，下玻璃上加工有真空吸附槽，下底片通过真空吸附在下玻璃上面；底片移动板下部安装了三个固定轴，大伺服系统推动固定轴带动下底片移动，使下底片与上盖的上底片对位；PCB移动板设置有三个固定轴，小伺服系统推动该固定轴来驱动PCB板与上底片或下底片对位。 

优选地，上底片通过真空吸附在上盖的上玻璃下面。 

进一步，该对位晒架还包括升降装置；升降装置驱动上盖上下移动。 

进一步，该对位晒架还包括升降装置；升降装置为四个气缸；四个气缸分别位于上盖的四角。 

优选地，底座上设置有两个定位销；两个定位销与上盖的两个定位销孔一一配合。 

进一步，该对位晒架还包括CCD照明灯；CCD照明灯位于上盖的上部且朝向下方。 

进一步，该对位晒架还包括两块挡光快门；两块挡光快门分别位于底座的两侧。 

本实用新型实施例提供的用于曝光机的对位晒架，与现有技术中相比，该对位晒架通过大伺服系统驱动下底片与上盖的上底片对位，而且通过小伺服系统驱动PCB板与上底片对位，从而实现PCB板的两面与上底片和下底片对位，而且在工作过程中，能够对上下底片对位超差自动修复。在对位的过程中，PCB板无需翻转，对位精度高，生产效益高。 

附图说明

图1示出了本实用新型实施例的用于曝光机的对位晒架的结构图。 

具体实施方式

下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。 

如图1所示为本实施例提供的一种用于曝光机的对位晒架，包括底座401、底片移动板、上盖402和PCB移动板；PCB移动板、底片移动板及上盖402从下至上依次设置在底座上；底片移动板上安装有下玻璃，下玻璃上加工有真空吸附槽，下底片通过真空吸附在下玻璃上面。底片移动板下部安装了三个固定轴，大伺服系统推动固定轴带动下底片移动，与上底片对位。PCB移动板设置有三个固定轴，小伺服系统推动固定轴来驱动PCB与上底片或下底片对位。 

本实用新型实施例提供的用于曝光机的对位晒架，与现有技术中相比，该对位晒架通过大伺服系统驱动下底片与上盖的上底片对位，而且通过小伺服系统驱动PCB板与上底片对位，从而实现PCB板的两面与上底片和下底片对位，而且在工作过程中，能够对上下底片对位超差自动修复。在对位的过程中，PCB板无需翻转，对位精度高，生产效益高。 

进一步，该对位晒架还包括升降装置404；升降装置404驱动上盖402上下移动。使上盖与底座间有足够空间，进出板装置才能完成PCB的装卸。优选地，升降装置为四个气缸；四个气缸分别位于上盖的四角。四个气缸同时驱动上盖，可以提高上盖在上升或下降过程中的稳定性，避免上盖在上下移动过程中不稳而影响生产进度。 

其中，上盖的下面安装了上玻璃，上玻璃上加工有真空吸附槽，上底片通过真空吸附在上玻璃下面。上盖做上下运动。另外，为了 限定上底片与下底片之间的位置，避免上底片与下底片之间的相对位置在曝光过程中发生变动，从而影响曝光的效果。 

优选地，晒架上安装了两个定位销；底座安装定位销，上盖安装销套，两个所述定位销与所述上盖的两个定位销孔一一配合，保证晒架工作过程中，上下底片的位置精度。 

该对位晒架在上盖上部安装了两组CCD照明灯；CCD照明灯位于上盖的上部且朝向下方，该CCD照明灯被CCD移动部件的控制驱动，与CCD传感器的移动同步。