[实用新型]用于曝光机的对位晒架有效
| 申请号： | 201320890618.0 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN203689009U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 李炬;佘瑞峰;肖丽;彭永杰;李辉;王金鹏;李松凌 | 申请（专利权）人： | 四川聚能核技术工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 621700 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 对位 | ||
1.一种用于曝光机的对位晒架，其特征在于，包括底座、底片移动板、上盖和PCB移动板；
所述PCB移动板、底片移动板及所述上盖从下至上依次设置在所述底座上；
所述底片移动板上安装有下玻璃，下玻璃上加工有真空吸附槽，下底片通过真空吸附在下玻璃上面；底片移动板下部安装了三个固定轴，大伺服系统推动固定轴带动下底片移动，使下底片与上盖的上底片对位；
所述PCB移动板设置有三个固定轴，小伺服系统推动该固定轴来驱动PCB板与上底片或下底片对位。
2.根据权利要求1所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，所述上底片通过真空吸附在所述上盖的上玻璃下面。
3.根据权利要求2所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，还包括升降装置；
所述升降装置驱动所述上盖上下移动。
4.根据权利要求3所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，还包括升降装置；所述升降装置为四个气缸；
四个所述气缸分别位于所述上盖的四角。
5.根据权利要求4所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，所述底座上设置有两个定位销；
两个所述定位销与所述上盖的两个定位销孔一一配合。
6.根据权利要求1所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，还包括CCD照明灯；
所述CCD照明灯位于所述上盖的上部且朝向下方。
7.根据权利要求1所述的用于曝光机的对位晒架，其特征在于，还包括两块挡光快门；
两块所述挡光快门分别位于所述底座的两侧。
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