[实用新型]膜评价池有效
申请号: | 201320874440.0 | 申请日: | 2013-12-27 |
公开(公告)号: | CN203620521U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 刘忠民;李泰胧;国继仲;腾野;张丽;王颖;李恕广;杜国栋;栗广勇 | 申请(专利权)人: | 大连欧科膜技术工程有限公司 |
主分类号: | B01D65/10 | 分类号: | B01D65/10;G01N15/08 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 贾汉生;李馨 |
地址: | 116035 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 评价 | ||
1.一种膜评价池,包括上盖、下盖、多孔支撑板和O型圈,其特征在于,所述下盖同轴顺次设置有第一圆柱孔和第二圆柱孔,所述第一圆柱孔内径大于第二圆柱孔内径,所述第二圆柱孔的孔底为开槽面,所述开槽面上设置有两个以上直线形凹槽,所述直线形凹槽以第二圆柱孔法线为中心延径向放射状设置,所述直线形凹槽长度与第二圆柱孔内径相同;所述下盖上设置有一端与直线形凹槽连通,另一端与外界连通的渗透气体管路;
所述多孔支撑板的外径与二圆柱孔内径相同,所述多孔支撑板置于第二圆柱孔内、开槽面上;
所述上盖设置有同轴顺次连接的第一圆柱体和第二圆柱体,所述第一圆柱体的外径大于第二圆柱体外径;所述第一圆柱体的外径与第一圆柱孔的内径相同,所述第一圆柱体与第二圆柱体高的和略小于第一圆柱孔的高,所述上盖与下盖扣合时,所述第二圆柱体远离第一圆柱体的一端与多孔支撑板能形成膜片容置空间;所述上盖与下盖扣合时,第二圆柱体侧壁与第一圆柱孔侧壁能形成用于容纳O型圈的环形容置空间;
所述上盖上设置有能分别实现膜片容置空间与外界的连通的原料气体管路和渗余气体管路。
2.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述O型圈为丁腈橡胶O型圈或氟橡胶O型圈,所述O型圈的外径略大于第一圆柱孔内径,所述O型圈的内径略小于第二圆柱体外径。
3.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述原料气口管路和渗余气口管路以第二圆柱体法线为中心对称。
4.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述渗透气体管路底部与直线形凹槽底部平齐。
5.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述直线形凹槽的个数为12个,所述两两相邻直线形凹槽间的夹角为30°。
6.根据权利要求1或5所述膜评价池,其特征在于,所述直线形凹槽槽高小于第二圆柱孔孔深,大于渗透气体管路直径。
7.根据权利要求1或4所述膜评价池,其特征在于,所述下盖上设置有一端与直线形凹槽连通,另一端与外界连通的吹扫气体管路;所述渗透气体 管路与吹扫气体管路以第二圆柱孔法线为中心对称。
8.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述多孔支撑板为不锈钢烧结板。
9.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述上盖为不锈钢上盖。
10.根据权利要求1所述膜评价池,其特征在于,所述下盖为不锈钢下盖。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连欧科膜技术工程有限公司,未经大连欧科膜技术工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320874440.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电路板对中机拍板调节装置
- 下一篇:管链输送机清扫装置