[实用新型]一种新型粉体等离子体处理装置有效
申请号: | 201320850223.8 | 申请日: | 2013-12-23 |
公开(公告)号: | CN203617245U | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 王红卫;沈文凯 | 申请(专利权)人: | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 孟宏伟 |
地址: | 215011 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 等离子体 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于等离子体处理装置领域,更具体的说是涉及一种新型粉体等离子体处理装置。
背景技术
等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质,它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。
目前,等离子体装置一般的是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,他们发生碰撞而形成离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的材料表面引起化学反应,从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化,得到满足实际要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高,而且改性仅发生在材料表面,对材料内部本体材料的性能没有影响,是理想的表面改性手段。
粉体是一种干燥、分散的固体颗粒组成的细微粒子。现有技术中,等离子体处理装置在处理粉体表面时,由于粉体堆积,微粒间的团聚使得没有暴露在等离子体气氛中的表面得不到处理,难以实现微粒表面全部处理,导致处理不完全、不均匀,处理效果差。
因此,亟需一种均匀处理的粉体材料表面等离子体处理装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷,提供一种新型粉体等离子体处理装置。
实现本实用新型目的的技术方案是:一种新型粉体等离子体处理装置,包括进料腔、反应腔、电极组件、等离子体发生器、收集腔和负压装置,所述反应腔顶部设置有用于反应气体通入的气体入口,所述反应腔上部设置有进料口,所述反应腔底部设置有出料口,所述进料腔与所述进料口连接,所述电极组件设置于所述反应腔外表面并且位于所述进料口下方,所述等离子体发生器与所述电极组件电连接,所述收集腔与所述出料口连接,所述负压装置分别与所述进料腔、所述反应腔连接。
进一步的,还包括螺杆送料机构,所述螺杆送料机构设置于所述进料腔与所述进料口之间,所述螺杆送料机构包括外壳以及设置于所述外壳内的进料螺杆。
进一步的,所述进料螺杆的包络线与所述外壳内壁相匹配。
进一步的,所述进料腔内还设置有搅拌机构。
进一步的,所述等离子发生器包括用于调节电极组件功率的电源和与所述电源连接的匹配器,所述匹配器还与所述电极组件连接。
进一步的,所述负压装置包括与所述反应腔连接的真空泵,所述真空泵与所述反应腔之间还设置有过滤器。
进一步的,所述负压装置与所述反应腔之间还设置有旋风分离器,所述旋风分离器底部连接有第二收集腔。
本实用新型具有积极的效果:本实用新型中负压装置将进料腔、反应腔和收集腔抽真空,反应气体从气体入口进入反应腔,等离子体发生器驱动电极组件生成电场,反应气体经过电场电离形成等离子体,进料腔中的粉体材料从进料口进入反应腔进行处理,最后由收集腔收集,粉体材料在进入反应腔的过程中有反应气体吹动,使得处理效果均匀,进料腔在进料的过程中保持反应腔的真空度,不需要停止处理即可进料,节约了时间,提高了工作效率。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中:
图1为本实用新型第一实施例的结构示意图;
图2为本实用新型第二实施例的结构示意图。
其中:1、进料螺杆,2、外壳,3、进料腔,4、搅拌机构,5、负压装置,6、气体入口,7、反应腔,8、电极组件,9、匹配器,10、电源,11、旋风分离器,12、过滤器,13、收集腔,14、第二收集腔。
具体实施方式
实施例1
如图1所示,作为第一优选实施例,本实施例提供一种新型粉体等离子体处理装置,包括进料腔3、螺杆送料机构、反应腔7、电极组件8、等离子体发生器、收集腔13和负压装置5,反应腔7顶部设置有用于反应气体通入的气体入口6,反应腔7上部设置有进料口(图中未示出),反应腔7底部设置有出料口(图中未示出),进料腔3与进料口连接,螺杆送料机构设置于进料腔3与进料口之间,电极组件8设置于反应腔7外表面并且位于进料口下方,等离子体发生器与电极组件8电连接,收集腔13与出料口连接,负压装置5与反应腔7连接。
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