[实用新型]一种化学机械研磨垫有效
| 申请号： | 201320823999.0 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN203611120U | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | 唐强;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械研磨垫，其特征在于，所述化学机械研磨垫至少包括：
具有一个旋转中心的研磨垫本体，其由底层和表层两层构成；
设于所述表层内的、用于分布抛光液的若干沟槽，所述沟槽的截面为若干以研磨垫本体的旋转中心为圆心的同心圆环，所述沟槽的横截面为设有倒角的U型沟槽。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述设于研磨垫中间区域的沟槽的宽度d1小于研磨垫边缘区域的沟槽的宽度d2。
3.根据权利要求2所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述宽度d1为5～15密耳，所述d2为15～50密耳；所述倒角的斜长L为1～3密耳。
4.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述沟槽的深度h为5～10密耳。
5.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述设于研磨垫中间区域的沟槽之间的间距d3大于设于研磨垫边缘区域的沟槽之间的间距d4。
6.根据权利要求5所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述设于研磨垫中间区域的沟槽之间的间距d3为80～120密耳；所述设于研磨垫边缘区域的沟槽之间的间距d4为60～80密耳。
7.根据权利要求1或2所述的化学机械研磨垫，其特征在于：所述分布于研磨垫中间区域的沟槽为20～25条；所述分布于研磨垫边缘区域的沟槽为3～5条。
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