[实用新型]非晶宽带制带设备用缓压喷嘴及非晶带连续生产系统

说明书

技术领域

本实用新型属于非晶制带设备技术领域，具体涉及一种非晶宽带制带设备用缓压喷嘴及一种非晶带连续生产系统。

背景技术

    非晶带材是在冷却结晶器上连续快速制造而成的厚度在25-30微米的非晶薄带。具体过程为：通过适当的工艺，熔融钢液从喷嘴的嘴缝中喷出，在冷却结晶器的作用下形成带材。

喷嘴包括喷嘴主体，喷嘴主体内设置一U形槽，喷嘴主体的底部开有一道相对窄的嘴缝，嘴缝位于U形槽底部正中间的位置，即最低点，高温熔融钢液进入U形槽后通过底部的嘴缝流出，因此用于喷制较宽带材的喷嘴和嘴缝都较长，如附图1所示，为了克服其易变形的缺陷，在喷嘴的U形槽中均匀分布2道以上加强筋。

但采用此种结构的喷嘴在熔融钢液的液位压力较高、流量较大、冲刷较严重的情况下，一方面容易出现带材沿宽度方向的带厚不均匀，易出现带材筋络、高点等情况，严重的可导致嘴缝压力过大导致变形开裂等问题出现；另一方面，由于嘴缝在U形槽的正中间，为最低点，而熔融钢液中冲刷的固体渣等异物最容易先冲到低点，造成嘴缝堵塞，这不仅阻碍了生产的正常进行，也会对现场操作人员的安全造成隐患。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种非晶宽带制带设备用缓压喷嘴，使其能够降低嘴缝处的液位压力，避免其在高流量的熔融钢液的冲刷下发生出带压力不均、带厚不均匀的现象，防止钢液中的固体渣子贴附在嘴缝的通道处；并具有结构简单、使用安全的特点，此喷嘴特别适用于连续制备带材宽度在142mm以上的非晶薄带。本实用新型的另一目的在于提供一种非晶带连续生产系统。

本实用新型的技术方案为：一种非晶宽带制带设备用缓压喷嘴，包括喷嘴主体、位于喷嘴主体内部的U形槽、位于喷嘴主体底部的嘴缝、分布在U形槽内的加强筋，所述嘴缝上端位于U喷槽底部的侧面。

优化的，所述嘴缝上端位于U形槽底部宽度的3/5-4/5处。

优化的，所述嘴缝上端位于U形槽底部宽度的2/3处。

优化的，加强筋底部开有通孔。

本实用新型提供的一种非晶带连续生产系统，包括冷却结晶器和喷嘴包，还包括上述任意一种喷嘴，所述喷嘴位于喷嘴包的底部、冷却结晶器的上方。

优化的，冷却结晶器沿逆时针方向转动，嘴缝位于U形槽底部中心点的右侧。

U形槽的侧面具体形状与“U”字的形状相似，其顶端开口，中部两侧壁相平行且与水平面垂直，底部为具有一定弧度且平滑的曲线，底部的中心位置最低，两侧沿中心成对称的缓缓上升的形状。本实用新型中所述的“嘴缝上端位于U喷槽底部的侧面”，即指嘴缝上端偏离U形槽底部的中心；本实用新型中所述的“U形槽底部宽度”是指U形槽底部曲线的两端点之间的水平距离，由于中部两侧壁相平行且与水平面垂直，因此这一距离与U形槽顶端开口两端的水平距离一致；本实用新型所述的“嘴缝上端位于U形槽底部宽度的3/5-4/5处”，是指嘴缝上端的中心点与最远的U形槽底部曲线端点之间的水平距离为U形槽底部宽度的3/5-4/5；本实用新型所述的“嘴缝上端位于U形槽底部宽度的2/3处”，是指嘴缝上端的中心点与最远的U形槽底部曲线端点之间的水平距离为U形槽底部宽度的2/3。

本实用新型的有益效果在于：1、将原分布在U形槽底部正中间的嘴缝移动位置，将其开在侧面，一方面通过提高嘴缝上端的高度，增加了U形槽最低点的强度，同时缓解了在流量较大时嘴缝处承受的压力，降低了喷嘴和嘴缝的变形风险；另一方面，嘴缝设置在U型槽的侧面后，熔融钢液在进入U型槽后，要先经过最底部的缓冲，到达一定液位高度后才能从嘴缝中流出，从而降低了嘴缝被熔融钢液中固体渣等异物堵塞的风险；2、通过试验证明嘴缝上端位于U形槽底部宽度的2/3处，能够满足142mm以上的非晶薄带的喷制需要；3、U形槽通过加强筋来增加结构强度，为保证U形槽的连通性，加强筋底部开有通孔；4、本实用新型提供的喷嘴具有结构简单、使用安全的特点，此喷嘴特别适用于连续制备带材宽度在142mm以上的非晶薄带。

附图说明

图1 为现有技术中用于制备非晶宽带的喷嘴结构从正面看的立体图；

图2为现有技术中用于制备非晶宽带的喷嘴结构从底面看的立体图；

图3 为本实用新型提供的喷嘴结构从正面看的立体图；

图4为本实用新型提供的喷嘴结构从底面看的立体图；

图5为本实用新型提供的非晶带连续生产系统的剖面图。

1、喷嘴主体；2、嘴缝；3、加强筋；4、U型槽；5、喷嘴包；6、冷却结晶器；7、通孔；8、U形槽底部的中心。