[实用新型]一种硅基有机太阳电池

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种硅基电池，具体涉及一种硅基有机太阳电池。 

背景技术

      太阳能产业的迅速发展需求一种工艺流程简单，光电转化效率高的产业化技术来降低发电成本，达到与市电同价或低于市电电价的目标。 

      当前常规晶硅电池随着产业化的发展，转换效率提升和成本降低都有了较大的进步，但其结构与技术特点限制了其生产成本的进一步下降。常规薄膜太阳电池由于其生产成本低廉、携带方便、弱光响应好，一直是行业研究的热点，但是其效率较低，并且衰减比较严重，不适合大量和长期使用，一直成为制约其发展的主要因素。 

      日本三洋电机结合了晶硅太阳电池的和薄膜电池的优点，摒弃了他们的弱点，研发了HIT电池，效率一直很高，并且成为未来高效太阳电池发展的一个主要方向。但是HIT太阳电池对设备和工艺的稳定性要求很高，该类型的太阳电池发展也比较缓慢。 

       有机薄膜太阳电池已经取得了很大的发展，至今为止，可以通过调节不同成分取得不同带隙的有机薄膜半导体材料，得到不同开压的太阳电池。 

怎么结合晶硅太阳电池和有机薄膜太阳电池的优点，制备出价格低廉，效率较高的太阳电池时本专利考虑的要点。 

发明内容

本实用新型的目的就是针对上述存在的问题而提供的一种硅基有机太阳电池，本实用新型结合常规晶硅太阳电池和薄膜太阳电池，并且相对于传统HIT电池，制备过程简单，成本降低；相对于传统有机太阳电池，效率得到一定提高。 

本实用新型的一种硅基有机太阳电池技术方案为，该硅基有机太阳电池，硅衬底的受光面依次为缓冲层、活性层、透明导电薄膜层，其中，正面金属电极位于透明导电薄膜层上；背光面覆盖有钝化层，背面金属电极穿过钝化层与硅衬底相连。 

缓冲层、活性层、透明导电薄膜层的厚度范围为1~5000nm。 

缓冲层为一层以上薄膜叠层结构，为ZnO、SiO₂、ITO、PEDOT:PSS薄膜中的一种。 

活性层为一层以上薄膜叠层结构，为给体-受体聚合物或染料敏化材料薄膜。 

活性层为P3HT:PCBM给体-受体薄膜叠层结构。 

钝化层为一层以上薄膜叠层结构，为SiO₂，SiN_x或AlO_x薄膜。 

透明导电薄膜层为一层以上薄膜的叠层结构，薄膜为ITO、IZO或ZnO薄膜。 

所述硅基有机太阳电池制备方法，工艺步骤为： 

（1）晶硅衬底制绒；

（2）缓冲层制备；

（3）活性层制备；

（4）透明导电薄膜层制备；

（5）钝化层制备；

（6）背面金属电极制备；

（7）正面金属电极制备；

（8）低温烧结。

正面金属电极、透明导电薄膜层、背面金属电极的制备采用印刷、溅射或喷墨的方法；受光区的缓冲层、活性层制备采用印刷、溅射、喷墨或旋涂的方法。金属电极材料可以采用金属、金属合金、无机金属、半导体等。 

低温烧结的温度为200-400℃，时间1-10分钟。 

受光区的缓冲层、活性层制备可以采用印刷、溅射、喷墨、旋涂的方法； 

在不影响太阳电池结构的情况下，制备步骤可以做一定的调整，例如先把受光面结构制备完毕后再制备背光面结构，或者受光面制备一步或多步后然后进行背光面一步或多步的制备；

本实用新型的有益效果为：本实用新型结合常规晶硅太阳电池和薄膜太阳电池，并且相对于传统HIT电池，制备过程简单，成本降低；相对于传统有机太阳电池，效率得到一定提高。用软件silvaco-tcad模拟结果显示：该结构太阳电池的效率可以达到26.2%；并且已经在实验室做出该结构的太阳电池，其开路电压可以达到785mV，预计太阳电池的效率可以达到24%以上。该太阳电池的主要薄膜沉积部分可以用旋涂的方法进行制备，可以减少异质结太阳电池在制备工艺中使用的真空设备，降低了设备成本和工艺难度。

附图说明：

图1是本实用新型的结构示意图。

图中，1.硅衬底；2.缓冲层；3.活性层；4.透明导电薄膜层；5.钝化层；6.背面金属电极；7.正面金属电极。 

具体实施方式：

为了更好地理解本实用新型，下面结合附图来详细说明本实用新型的技术方案，但是本实用新型并不局限于此。

实施例1