[实用新型]一种自来水深度处理装置有效

专利信息
申请号: 201320789859.6 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN203639217U 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 柯玉章;李钰;谢军;柯杨 申请(专利权)人: 乐山市洁宇纳米应用技术研究所
主分类号: C02F1/58 分类号: C02F1/58
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 冉鹏程
地址: 614000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 自来水 深度 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种自来水深度处理装置,包括壳体,其特征在于:所述壳体为双层结构,由封闭的上层壳体(1)和下层壳体(2)构成,上层壳体(1)上部侧壁开有上进水口(3),下部侧壁开有上出水口(4)和上排污口(5);下层壳体(2)上部侧壁开有下进水口(6),下部开有下出水口(7)和下排污口(8),上出水口(4)和下进水口(6)通过连接管(9)连通,所述连接管(9)上设置有阀门(10);所述上层壳体(1)内放置有纳米二氧化钛固载催化件,纳米二氧化钛固载催化件由第一卡管(11)、纳米二氧化钛固载催化片(12)和第二卡管(13)构成,所述纳米二氧化钛固载催化片(12)一侧卡接在第一卡管(11)上,另一侧卡接在第二卡管(13)上;所述下层壳体(2)侧壁上开有气孔(14)。

2.根据权利要求1所述的一种自来水深度处理装置,其特征在于:所述纳米二氧化钛固载催化片(12)从下到上依次由陶瓷本体(15)、釉面层(16)和二氧化钛膜面层(17)构成,釉面层(16)附着在陶瓷本体(15)表面上,二氧化钛膜面层(17)烧固在釉面层(16)上。

3.根据权利要求1或2所述的一种自来水深度处理装置,其特征在于:还包括控制器(18),所述阀门(10)为电磁阀门,电磁阀门的开关通过控制器(18)控制。

4.根据权利要求3所述的一种自来水深度处理装置,其特征在于:所述下出水口(7)开在下层壳体(2)侧壁上,下出水口(7)通过出水管(19)连接有增压泵(20)。

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