[实用新型]循环式均匀蚀刻装置

权利要求书

1.一种循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，包括：

一槽体，该槽体内容纳有一蚀刻液；

一承载板，设置于该槽体内且邻近该槽体的底端，该承载板与该槽体的底端共同界定出一回流通道；

多条出酸管，设置于该承载板上；

一回酸管，设置于该槽体的底端且连通于该回流通道，该回酸管还经由一回流管路连接所述多条出酸管；以及

多条气泡管，设置于该承载板上，用以施予气泡以促进该蚀刻液的扰动。

2.如权利要求1所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，所述多条出酸管沿着一第一方向间隔设置于该承载板上，每一所述出酸管具有多个出酸孔，且相邻的两个所述出酸孔相隔一第一间距。

3.如权利要求2所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，所述多条气泡管沿着垂直于该第一方向的一第二方向间隔设置于所述多条出酸管的上方，每一所述气泡管具有多个喷气孔，且相邻的两个所述喷气孔相隔一第二间距。

4.如权利要求3所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，该第一间距介于3至5厘米之间，该第二间距介于3至5厘米之间。

5.如权利要求1所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，该回流管路包括一加压泵及多条引流管，该加压泵连接设置于该回酸管与所述多条引流管之间，所述多条引流管分别连接所述多条出酸管。

6.一种循环式均匀蚀刻装置，用于均匀蚀刻一载具内的多个加工件，其中该载具具有供液体流通的一上自由端及一下自由端，其特征在于，该循环式均匀蚀刻装置包括：

一槽体，该槽体内容纳有一蚀刻液，该槽体具有一开口端及相对于该开口端的一底端；

一承载板，设置于该槽体内且邻近该底端，该承载板与该底端共同界定出一回流通道；

多条出酸管，设置于该承载板上；

一回酸管，设置于该底端且连通于该回流通道，该回酸管还经由一回流管路连接所述多条出酸管；以及

多条气泡管，设置于该承载板上，用以施予气泡以促进该蚀刻液的扰动；

其中，该蚀刻液在该载具从该槽体的外部通过该开口端传送至该承载板上时产生一由该下自由端朝该上自由端的波动，使部分该蚀刻液溢出该载具的上开口端并经该回流通道流入该回酸管，进一步经该回流管路回流至所述多条出酸管。

7.如权利要求6所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，所述多条出酸管沿着一第一方向间隔设置于该承载板上，每一所述出酸管具有多个出酸孔，且相邻的两个所述出酸孔相隔一第一间距。

8.如权利要求7所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，所述多条气泡管沿着垂直于该第一方向的一第二方向间隔设置于所述多条出酸管的上方，每一所述气泡管具有多个喷气孔，且相邻的两个所述喷气孔相隔一第二间距。

9.如权利要求8所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，该第一间距介于3至5厘米之间，该第二间距介于3至5厘米之间。

10.如权利要求6所述的循环式均匀蚀刻装置，其特征在于，该回流管路包括一加压泵及多条引流管，该加压泵连接设置于该回酸管与所述多条引流管之间，所述多条引流管分别连接所述多条出酸管。