[实用新型]真空分离器上使用的反应架有效

专利信息
申请号: 201320774265.8 申请日: 2013-11-30
公开(公告)号: CN203777716U 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 张庭华 申请(专利权)人: 重庆骏然机电有限公司
主分类号: B01D17/09 分类号: B01D17/09;B01D19/00;B01D36/00
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 穆祥维
地址: 400041 重庆市*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 真空 分离器 使用 反应
【权利要求书】:

1.真空分离器上使用的反应架,其特征在于:包括水平设置在真空罐内横截面上的支撑板(1)和设置在支撑板(1)上的三层反应环(2);下一层上的反应环与上一层上的反应环相互错位设置;

所述支撑板(1)上均布数个竖直设置通孔(3),通孔(3)的孔径为1.6~1.8mm,支撑板(1)上相邻通孔(3)之间的距离为4~4.5mm;

所述反应环(2)由一铁片围成的圆环(21)和铁片的一端向内弯折形成的折臂(22)组成,所述圆环(21)的外径为26~28mm;

所述反应环(2)竖直设置,下一层上的反应环的内孔与上一层上相邻的反应环的内孔连通。

2.根据权利要求1所述的真空分离器上使用的反应架,其特征在于:所述圆环(21)和折臂(22)的厚度为1~1.2mm。

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