[实用新型]一种连续材料表面常压等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201320756432.6 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN203562395U 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 沈文凯;王红卫 申请(专利权)人: 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 孟宏伟
地址: 215011 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 连续 材料 表面 常压 等离子体 处理 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及等离子体处理装置,尤其涉及一种连续材料表面常压等离子体处理装置。

背景技术

低温等离子体技术作为一种新的表面改性手段,能快速、高效、无污染地改善材料的表面性能,赋予新的特征,同时又不改变材料的本体特点,已经越来越被世界各国的研究人员所重视,等离子体表面处理是利用气体放电产生的等离子体对材料表面进行物理和化学反应。参与反应的有激发态粒子、自由基和离子,也包括等离子体辐射紫外线的作用。通过表面反应有可能在表面引入特定官能团,产生表面活化和刻蚀,形成交联结构或生成表面自由基。这些作用一般不是单一的,往往某种作用为主,几种作用并存。正是这些作用决定了等离子体表面处理的有效性。

目前,绝大部分等离子体表面处理都是在低气压环境下进行的。由于低气压的真空设备成本高,并且现有技术难以实现连续材料的表面处理。

因此,亟需一种连续材料表面常压等离子体处理装置。

实用新型内容

    本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷,提供一种连续材料表面常压等离子体处理装置。

实现本实用新型目的的技术方案是:一种连续材料表面常压等离子体处理装置,包括外壳、传动装置、沿进料方向设置的至少一个金属电极组和与所述金属电极组连接的电源,所述外壳下方开口,所述外壳内设置有反应腔室,所述传动装置设置于所述反应腔室内,所述金属电极组为一对竖直设置于所述反应腔室内的平板电极并且所述金属电极组设置于所述传动装置之间,所述金属电极组的平板电极外侧设置有绝缘板,所述外壳壁体上开设有用于反应气体进入反应腔室内的气体入口。

 进一步的,所述外壳为防水外壳。

进一步的,所述传动装置包括设置于所述金属电极组上端的第一导辊和设置于所述金属电极组下端的第二导辊,所述第一导辊与所述第二导辊沿进料方向相交叉设置。

进一步的,还包括与所述外壳连通设置的雾化装置。

进一步的,所述雾化装置为超声波雾化器。

本实用新型具有积极的效果:本实用新型中反应气体从气体入口进入外壳内,金属电极组通电将反应气体电离,连续材料通过传动装置沿进料方向穿过金属电极组之间进行表面处理,实现了连续材料无间断的表面处理,结构简单,成本低。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中:

图1为本实用新型第一实施例的结构示意图;

图2为本实用新型第二实施例的结构示意图。

其中:1、第二导辊,2、平板电极,3、气体入口,4、第一导辊,5、外壳,6、雾化装置。

具体实施方式

实施例1

如图1所示,本实用新型第一优选实施例提供一种连续材料表面常压等离子体处理装置,包括外壳5、传动装置、沿进料方向设置的二个金属电极组和与金属电极组连接的电源(图中未示出),外壳5下方开口,传动装置包括设置于金属电极组上端的第一导辊4和设置于金属电极组下端的第二导辊1,第一导辊1与第二导辊4沿进料方向相交叉设置,金属电极组为一对竖直设置于外壳内的平板电极3并且金属电极组设置于第一导辊4和第二导辊1之间,金属电极组的平板电极2外侧设置有绝缘板,外壳5壁体上开设有用于反应气体进入外壳内的气体入口3。

本实施例反应气体从气体入口3进入外壳5内,金属电极通电将反应气体电离,连续材料相交叉的缠绕在第二导辊1和第一导辊4上并且沿进料方向设置于金属电极组之间,实现了连续材料无间断的进行表面处理;设置二个金属电极组,可实现二级处理,处理效果更好,本实施例中连续材料可为薄膜、织物等,具体不作限定。

实施例2

如图2所示,作为第二优选实施例,其余与实施例1相同,不同之处在于,本实施例还包括与外壳5连通设置的雾化装置6,该雾化装置6可选用超声波雾化器,具体不作限定,外壳5为防水外壳。

本实施例中外壳5为防水外壳在工作过程中保证人身安全,增加雾化装置6向反应腔室,与气体入口3分别通入不同的反应气体,实现材料表面多种气体处理,提高工作效率。

以上所述的具体实施例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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