[实用新型]一种温度控制器有效
申请号: | 201320752133.5 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN203773377U | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 冯模开;万仁勇 | 申请(专利权)人: | 武汉辉达工控技术有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 430035 湖北省武汉市硚口区古田*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 温度 控制器 | ||
技术领域
本实用新型涉及温度控制技术领域,特别涉及一种温度控制器。
背景技术
现有的温度控制器多采用智能仪表、指针表以及众多的线路组合,通过多方面,多步骤的操作后实现控制参数的设置和温度控制,操作复杂,步骤繁多,线路安全隐患突出;同时,现有温度控制器通过外部传感器实现实验电炉的温度采集,易受扰动影响,导致温度控制的剧烈波动,控制精度不高。严重影响实验电炉的温度控制,从而使得通过实验电炉完成的各种实验操作,产生误差甚至直接导致实验失败。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种提高温度控制稳定性,精确性,安全性的温度控制装置。
为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种温度控制器,用于实验电炉的温度控制;所述温度控制器包括:主控触发板、可控硅模块、温度传感器以及接触器;所述主控触发板的输出端分别与所述接触器以及所述可控硅模块相连;供电电源依次通过所述接触器、所述可控硅模块与所述实验电炉的负载相连;所述温度传感器将所述实验电炉温度采集并传输给所述主控触发板;主控触发板、可控硅模块、温度传感器以及接触器形成温度控制闭环回路。
进一步地,所述主控触发板包括:MCU控制单元以及可控硅触发板;所述MCU控制单元的输出端与所述可控硅触发板的输入端相连;所述MCU控制单元的输入与所述温度传感器的输出端相连。
进一步地,所述温度传感器包括:主传感器和从传感器;所述主传感器和所述从传感器的输出端均与所述MCU控制单元的输入端相连。
进一步地,所述温度控制器还包括:显示面板;所述显示面板与所述MCU控制单元通信相连。
进一步地,所述显示面板为触控屏。
进一步地,所述温度控制器还包括:互感器;所述互感器串接在所述可控硅模块与所述实验电炉的负载之间;所述互感器的输出端与所述MCU控制单元的输入端相连。
进一步地,所述温度控制器还包括:漏电开关;供电电源通过所述漏电开关与所述接触器以及所述可控硅触发板相连。
进一步地,所述温度控制器还包括:旋转编码器;所述旋转编码器与所述MCU控制单元的输入端相连。
进一步地,所述温度控制器还包括:散热装置;所述散热装置置于所述可控硅模块上。
进一步地,所述散热装置包括:散热片和散热风扇;所述散热片置于所述可控硅模块下方;所述散热风扇固定在所述可控硅模块边沿,面向可控硅模块。
本实用新型提供的温度控制器通过高集成度的主控触发板、可控硅模块、温度传感器以及接触器形成精简的温度控制闭环回路;从而使得实验电炉的温度控制操作安全、精确、稳定;改变了传统实验电炉温度控制系统的线路以及器件的复杂连接的局面,避免了由之带来的安全隐患,频繁扰动以及烦杂的维护劳动量;同时,高集成度,精简的结构也降低了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的温度控制器的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,本实用新型实施例提供的一种温度控制器,用于实验电炉的温度控制;温度控制器包括:主控触发板、可控硅模块、温度传感器以及接触器;主控触发板的输出端分别与接触器以及可控硅模块相连,从而控制可控硅模块的导通角的大小,进而控制施加在实验电炉的负载上的电流,从而控制实验电炉的加热过程,达到控制温度的目的;供电电源依次通过接触器、可控硅模块与实验电炉的负载相连,主控触发板通过接触器控制可控硅模块的电源供给,进而控制实验电炉负载的加热进程;温度传感器将实验电炉的温度采集并传输给主控触发板,从而实现实验电炉的温度的闭环反馈控制,降低扰动影响,提升温度控制的稳定性和精度;同时通过高集成度的器件连接,精简了温度控制器的结构和连接关系,避免了线路安全故障,提升了温度控制进程的安全性。
主控触发板用于实现温度控制器的闭环控制,包括:MCU控制单元以及可控硅触发板;MCU控制单元的输出端与可控硅触发板的输入端相连,驱动可控硅触发板发送脉冲信号给可控硅模块,控制其导通角的大小,进而控制施加在实验电炉负载上的电流,控制实验电炉的温度;MCU控制单元的输入与温度传感器的输出端相连,从而将温度传感器采集的实验电炉温度信号传输给MCU控制单元,实现实验电炉温度的闭环反馈控制,大大提升温度的控制精度,降低扰动的干扰,提升温度控制的稳定性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉辉达工控技术有限公司,未经武汉辉达工控技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320752133.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。