[实用新型]一种低粘度硅油脱低分子装置有效

专利信息
申请号: 201320741319.0 申请日: 2013-11-21
公开(公告)号: CN203602540U 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 冯钦邦;吴利民;王跃林;申士和 申请(专利权)人: 宜昌科林硅材料有限公司
主分类号: C08G77/34 分类号: C08G77/34
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 谭英强
地址: 443711 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 粘度 硅油 分子 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型用于硅油脱低领域,特别是涉及一种低粘度硅油脱低分子装置。

背景技术

硅油脱低分子是将挥发性物质,如环体从液相转到气相,并加以分离的过程。硅油的原料组分越多,其脱低分子操作越复杂。随着生活水平不断提高,人们对商品的质量要求不断提高,现在很多客户都要求硅油产品挥发份小于0.5%,有些高端领域,如航空航天领域、医药领域等对硅油挥发份要求更高。在硅油生产过程中,脱低分子过程所消耗的能量占整个生产过程的60%~70%。因此,脱低分子工艺的优劣,直接影响硅油产品质量及生产成本。

目前低粘度硅油的脱除低分子有两种方式,一是间歇式:硅油和封端剂在催化剂作用下合成硅油后,在减压条件下直接在反应釜内脱除低分子。该种方式的缺点:脱低时间长,效率低,能耗高,产品挥发份批次波动大,不适合生产扩大化,采取这种脱低方式的产品,其挥发份只能保持在1%左右;二是连续式:预热器串联一个或多个薄膜蒸发器,在同一真空系统下脱除低分子。由于低粘度硅油粘度较小,很难在薄膜蒸发器内形成液膜,采用单个薄膜蒸发器,使得设备效能低下,且不能保证产品挥发份含量,不适合低粘度硅油脱除低分子;采用多个薄膜蒸发器并联或串联起来,虽然能一定程度保证产品挥发份含量,但是其设备投资成本高、能耗大。同时由于采用单一真空系统,在薄膜蒸发器内,进料量和真空度呈类反比关系,为了保证系统真空度,不得不降低脱低进料量,使得设备有效利用率低,同时影响产品脱低效果。

实用新型内容

为解决上述问题,本实用新型提供一种提高设备利用率,提高产品收率,降低能耗,降低投资成本的低粘度硅油脱低分子装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种低粘度硅油脱低分子装置,包括依次通过管路导通的硅油缓冲罐、输送泵、预热器、降膜蒸发器、普通真空分离系统、高真空分离系统、冷却器和产品储罐,普通真空分离系统包括设在降膜蒸发器和高真空分离系统间的分离器和由分离器导出的第一低分子回收支路,高真空分离系统包括设在分离器和冷却器间的薄膜蒸发器和由薄膜蒸发器导出的第二低分子回收支路。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,第一低分子回收支路包括与分离器顶部导通的第一低分子储液罐和设在分离器和第一低分子储液罐间的第一冷凝器。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,第二低分子回收支路包括与薄膜蒸发器顶部导通的第二低分子储液罐和设在薄膜蒸发器和第二低分子储液罐间的第二冷凝器。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,分离器包括设有保温夹层的罐体、分别设在罐体的上、下两端的气相出口和出料口以及沿罐体内壁的切线方向引入的入料口,罐体内在气相出口的下方设有除沫器。

本实用新型的有益效果:本实用新型采用包括普通真空分离系统和高真空分离系统的两级分离系统,在普通真空分离系统中脱除大部分低分子,高真空分离系统进一步脱除低分子,使得产品挥发份在0.2%以下。两级分离系统采用两种不同真空系统,保证两级分离系统的真空度,保证产品挥发份含量,从而保证产品质量,同时使得脱低进料量得到很大提高,从而提高生产效率。此外,本实用新型中硅油由高温区流向低温区,有效节约能耗,降低投资成本。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明:

图1是本实用新型实施例系统结构示意图;

图2是本实用新型分离器结构示意图。

具体实施方式

参照图1、图2,本实用新型提供了一种低粘度硅油脱低分子装置,包括依次通过管路导通的硅油缓冲罐1、输送泵2、预热器3、降膜蒸发器4、普通真空分离系统5、高真空分离系统6、冷却器7和产品储罐8,普通真空分离系统5包括设在降膜蒸发器4和高真空分离系统6间的分离器51和由分离器51导出的第一低分子回收支路,高真空分离系统6包括设在分离器51和冷却器7间的薄膜蒸发器61和由薄膜蒸发器61导出的第二低分子回收支路。第一低分子回收支路包括与分离器51顶部导通的第一低分子储液罐52和设在分离器51和第一低分子储液罐52间的第一冷凝器53。第二低分子回收支路包括与薄膜蒸发器61顶部导通的第二低分子储液罐62和设在薄膜蒸发器61和第二低分子储液罐62间的第二冷凝器63。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜昌科林硅材料有限公司,未经宜昌科林硅材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320741319.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top