[实用新型]带有冷喷温度控制的全二维气相色谱

说明书

技术领域

本实用新型涉及全二维气相色谱，具体说，是一种带有冷喷温度控制的全二维气相色谱。 

背景技术

在物质分离领域中，对许多复杂体系的分析即便是采用分离效率很高的毛细管柱仍无法将其每一个成分都分离开，如：石油组成，天然产物等。应用全二维气相色谱（GC×GC）可以大大的提高分离效率，同时，还能将分析物按族进行分离。 

全二维色谱与一维色谱相比，具有高的峰容量、灵敏度和低检出限。全二维气相色谱是把分离机理不同而又相互独立的两支色谱柱以串联的方式结合而成的。全二维色谱的工作原理是通过调制解调器来调节热喷的周期性开闭（冷喷为连续）来实现目标化合物的二次聚焦，从而实现不同化合物的全二维分离。 

如图1所示，现有技术的全二维气相色谱中，包括依次相连的进样口1、一维气相色谱2、调制解调器3、二维气相色谱4、质谱5，调制解调器3上连接有冷喷流量控制器6和热喷流量控制器7，冷气8经过冷喷流量控制器6进入调制解调器3，热气9经过热喷流量控制器7进入调制解调器3，通过调制解调器3调节热喷流量控制器7的周期性开闭（冷喷流量控制器6为连续），实现目标化合物的二次聚焦，从而实现不同化合物的全二维分离。 

但是现有技术的全二维气相色谱，不能根据化合物性质来调节冷喷温度，不能实现不同沸点化合物在不同冷却温度下的有效聚焦和由于冷却度不够导致的色谱峰拖尾现象或冷喷气过冷而残留于调制解调器中的问题。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种结构简单、使用方便的带 有冷喷温度控制的全二维气相色谱。 

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种带有冷喷温度控制的全二维气相色谱，包括依次相连的进样口、一维气相色谱柱、调制解调器、二维气相色谱柱、质谱，调制解调器上连接有冷喷流量控制器和热喷流量控制器，在冷喷流量控制器上安装一个气体比例阀，冷气和常温气经过气体比例阀混合后进入冷喷流量控制器，再进入调制解调器，热气经过热喷流量控制器进入调制解调器。 

所述冷气为经过液氮冷却的空气或氮气，常温气为常温空气或氮气。 

所述气体比例阀通过调节冷却流量和常温气流量来调节冷喷温度。 

所述气体比例阀通过调节冷气和常温气的流量配比，来调节冷喷温度。 

本实用新型的有益效果是：使调制解调器可以控制冷喷气的温度，通过气体比例阀调节冷气流量和常温气流量来调节冷喷温度，实现针对不同沸点化合物的最佳聚焦效果。解决了冷却度不够导致的色谱峰拖尾现象或冷喷气过冷而残留于调制解调器中。 

附图说明

图1为现有技术的全二维气相色谱的示意图。 

图2为本发明的带有冷喷温度控制的全二维气相色谱的示意图。 

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明： 

本实用新型的全二维气相色谱的工作原理与现有技术是相同的，可以参考现有技术，所以不再叙述，本实用新型与现有技术的不同点是带有冷喷温度控制，下面进行详细的说明： 

如图2所示，本实用新型的带有冷喷温度控制的全二维气相色谱，包括依次相连的进样口1、一维气相色谱柱2、调制解调器3、二维气相色谱柱4、质谱5，调制解调器3上连接有冷喷流量控制器6和热喷流量控制器7，在冷喷流量控制器6上安装一个气体比例阀10，冷气8和常温气11经过气体比例阀10混合后进入冷喷流量控制器6，再进入调制解调器3，热气9经过热 喷流量控制器7进入调制解调器3。 

所述冷气8为经过液氮冷却的空气或氮气，常温气11为常温空气或氮气。 

所述气体比例阀10通过调节冷气8流量和常温气11流量来调节冷喷温度。 

所述气体比例阀10通过调节冷气8和常温气11的流速配比，来调节冷喷温度。 

本实用新型的全二维气相色谱，冷喷温度的可调，根据化合物性质来调节冷喷温度，实现对不同沸点化合物在不同冷却温度下的有效聚焦，解决了冷却度不够导致的色谱峰拖尾现象或冷喷气过冷而残留于调制解调器中。 

以上所述的实施例仅用于说明本实用新型的技术思想及特点，其目的在于使本领域内的技术人员能够理解本实用新型的内容并据以实施，不能仅以本实施例来限定本实用新型的专利范围，即凡本实用新型所揭示的精神所作的同等变化或修饰，仍落在本实用新型的专利范围内。